[发明专利]经由数字实验解决正电子发射断层摄影中的视场外散射校正问题有效

专利信息
申请号: 201680025785.5 申请日: 2016-04-25
公开(公告)号: CN107636493B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: A·安德烈耶夫;Y-M·朱;叶京汉;宋犀云 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 经由 数字 实验 解决 正电子 发射 断层 摄影 中的 视场 散射 校正 问题
【权利要求书】:

1.一种辐射发射成像系统,包括:

辐射发射成像数据采集系统,其被配置为采集视场(FOV)(14)中的辐射发射成像数据;

电子数据处理设备,其被编程为通过包括以下的操作来重建所述辐射发射成像数据:

识别与被设置在所述视场(FOV)中的目标(12)外的所述视场(FOV)的背景区域(14B)相对应的所述辐射发射成像数据的背景部分(26B);

针对所述视场(FOV)外的至少一个空间区域调节视场(FOV)外活动估计(40),以优化针对所述辐射发射成像数据与所述视场(FOV)外活动估计的组合的模拟散射分布;并且

使用经优化的模拟散射分布来重建所述视场(FOV)中的所述目标的散射校正图像。

2.根据权利要求1所述的辐射发射成像系统,其中,所述调节包括:

迭代地调节所述视场(FOV)外活动估计(40)以优化代价函数,所述代价函数将(i)针对所述辐射发射成像数据与所述视场(FOV)外活动估计的所述组合的所述模拟散射分布与(ii)所述辐射发射成像数据的所述背景部分(26B)进行比较。

3.根据权利要求1所述的辐射发射成像系统,其中,所述调节包括:

针对多个不同的视场(FOV)外活动估计中的每个,计算代价函数,所述代价函数将(i)针对所述辐射发射成像数据与所述视场(FOV)外活动估计的所述组合的所述模拟散射分布与(ii)所述辐射发射成像数据的所述背景部分(26B)进行比较;并且

选择优化所述代价函数以改善针对所述辐射发射成像数据与所述视场(FOV)外活动估计的所述组合的所述模拟散射分布的所述视场(FOV)外活动估计。

4.根据权利要求1所述的辐射发射成像系统,其中,所述辐射发射成像数据采集系统包括正电子发射断层摄影(PET)成像系统(10),所述正电子发射断层摄影(PET)成像系统被配置为采集所述视场(FOV)(14)中的正电子发射断层摄影(PET)成像数据(20)。

5.根据权利要求4所述的辐射发射成像系统,其中,所述电子数据处理设备被编程为通过还包括以下的操作来重建所述辐射发射成像数据:

对所述正电子发射断层摄影(PET)成像数据(20)执行随机校正以产生经随机校正的正电子发射断层摄影(PET)成像数据(26),其中,所述识别、所述调节和所述重建是对所述经随机校正的正电子发射断层摄影(PET)成像数据来操作的。

6.根据权利要求4-5中的任一项所述的辐射发射成像系统,其中,所述电子数据处理设备被编程为通过对表示为正弦图的所述正电子发射断层摄影(PET)成像数据执行的所述操作来重建所述正电子发射断层摄影(PET)成像数据(20)。

7.根据权利要求6所述的辐射发射成像系统,其中,所述识别包括:

将所述正弦图中的所述目标(12)的边界识别为正弦图强度的下降;并且

将所述背景部分(26B)识别为所述正弦图的在所述边界的较低强度侧的部分。

8.根据权利要求1所述的辐射发射成像系统,其中,所述视场(FOV)外活动估计(40)包括在所述视场(FOV)(14)的相对侧的两个视场(FOV)外活动估计分量。

9.根据权利要求8所述的辐射发射成像系统,其中,所述视场(FOV)(14)的相对侧的所述两个视场(FOV)外活动估计分量关于所述视场(FOV)(14)不对称。

10.根据权利要求8-9中的任一项所述的辐射发射成像系统,其中,所述视场(FOV)外活动估计(40)还包括在所述视场(FOV)(14)的第三侧的第三视场(FOV)外活动估计分量(1”,2”)。

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