[发明专利]用于改变表面的外观的方法在审

专利信息
申请号: 201680025934.8 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN107635721A 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: A-L·博多内;朱利安·卡贝内罗;托马斯·兰伯特 申请(专利权)人: 法商圣高拜欧洲实验及研究中心
主分类号: B24C3/32 分类号: B24C3/32;B24C11/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华,石磊
地址: 法国柯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 改变 表面 外观 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于改变表面的外观的方法,尤其是用于降低所述表面的光泽度的方法,特别是出于美学目的或装饰目的。

背景技术

通过喷涂处理金属表面在于将颗粒(例如珠或细粒)喷涂到金属、陶瓷或聚合物性质的表面上。

喷涂处理的被称作“喷丸”的示例用于形成表面预应力,以提高所处理部件的机械性能和/或增加所处理部件的使用寿命。尺寸通常大于200μm、优选地大于300μm的颗粒,必须是坚硬的且具有抗性且必须以高速进行喷涂,优选地利用离心式抛丸机。

喷涂处理的被称作“清洁”处理的另一示例用于分离和/或清洁表面。尺寸通常在100μm和500μm之间的所述颗粒,优选地耐磨细粒(从而具有锋利边缘),必须以低速进行喷涂。

喷涂处理的被称作“美容修整”处理的另一示例用于改变表面的外观,尤其是色彩、纹理且尤其是形状和形貌(包括粗糙度)、光泽度或亮度。尺寸通常小于500μm、优选地小于300μm、优选地小于150μm、优选地小于100μm的颗粒,一般是磨粒或熔珠。它们必须以低于用于形成表面预应力的速度的速度进行喷涂。优选使用压力小于4巴、优选地小于3巴的吸式喷砂机。

因此,对于上述各个处理采用的颗粒和喷涂条件是特定的。因此,对于特定处理、例如对于喷丸所遇到的问题以及用于解决该问题所提出的解决方案不可先验地外推用于另一处理,例如用于美容修整处理。

通常,使用陶瓷珠的美容修整处理导致光泽渲染且可产生所述表面的变形。

因此,需要这样的方法:其可以改变、甚至调整表面的光泽度,而不必改变喷涂的参数(尤其压力、喷涂距离和喷涂角度)。尤其,需要一种可以减小光泽度而不存在表面变形的风险且不会加速喷涂装置的磨损的方法。

本发明的目的在于至少部分地响应于该需求。

发明内容

根据本发明,通过一种用于改变表面的外观的方法而实现该目的,所述方法包括喷涂最大尺寸小于或等于500μm的颗粒的阶段,所述颗粒具有大于90%的相对密度,按体积计大于5%且小于80%的被称作“喷涂颗粒”的所述颗粒为开槽颗粒(notching particle),其他的喷涂颗粒被称作“非开槽颗粒(non-notching particle)”。

发明人已经发现这种方法有利地可以响应于上述需求。尤其,在不能通过理论解释的情况下,发明人已经发现该方法能够减少所处理表面的光泽度,而不存在表面的额外变形。

优选地,根据本发明的方法还呈现出一个或多个以下可选的特征:

-喷涂颗粒的组具有小于400μm、优选地小于300μm、优选地小于200μm、优选地小于150μm、甚至小于120μm的最大尺寸;

-喷涂颗粒的组具有大于5μm、优选地大于10μm、优选地大于15μm、优选地大于20μm、甚至大于30μm、甚至大于40μm的最小尺寸;

-喷涂颗粒的组具有大于15μm的最小尺寸且小于60μm的最大尺寸,或者喷涂颗粒具有大于40μm的最小尺寸且小于90μm的最大尺寸,或者喷涂颗粒的组具有大于55μm的最小尺寸且小于120μm的最大尺寸;

-喷涂颗粒的组具有小于100μm、优选地小于90μm、优选地小于80μm和/或大于30μm的中值粒径;

-喷涂颗粒的组包括按重量计大于10%、优选地大于20%、优选地大于30%,和/或优选地小于70%、优选地小于60%的开槽颗粒;

-开槽颗粒的平均大小大于15μm、优选地大于20μm、优选地大于30μm、优选地大于40μm,和/或优选地小于300μm、优选地小于200μm、优选地小于150μm、优选地小于120μm;

-非开槽颗粒的平均大小大于15μm、优选地大于20μm、优选地大于30μm、优选地大于40μm,和/或优选地小于300μm、优选地小于200μm、优选地小于150μm、优选地小于120μm;

-开槽颗粒的平均大小与非开槽颗粒的平均大小的比率大于1/20、优选地大于1/15、优选地大于1/10、优选地大于1/5、优选地大于1/3,和/或小于20、优选地小于15、优选地小于10、优选地小于5、优选地小于3、优选地小于2.5、优选地小于2、优选地小于1.5;

-开槽颗粒的组的中值粒径与非开槽颗粒的组的中值粒径的比率大于1/20、优选地大于1/15、优选地大于1/10、优选地大于1/5、优选地大于1/3,和/或小于20、优选地小于15、优选地小于10、优选地小于5、优选地小于3、优选地小于2.5、优选地小于2、优选地小于1.5;

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