[发明专利]测量设备和方法

权利要求书

1.一种用于测量行进通过腔室的电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性的测量设备，包括：

围绕所述腔室布置的多个电极；

多个电光调制器，其中所述多个电极被配置成向所述电光调制器提供信号以由此调制所述电光调制器的至少一个光学属性；

至少一个激光源，用于将包括一系列激光脉冲的激光束提供给所述多个电光调制器以获得表示所述电光调制器的所述至少一个光学属性的测量；以及

处理资源，被配置成至少对来自所述电光调制器中的第一电光调制器的第一测量信号和来自所述电光调制器中的第二电光调制器的第二测量信号进行处理，以由此确定所述电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性，其中所述至少一个属性包括：

电荷和/或横向位置。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个属性包括横向位置，并且对来自所述电光调制器中的所述第一电光调制器的所述第一测量信号和来自所述电光调制器中的所述第二电光调制器的第二测量信号进行的所述处理包括：确定所述第一测量信号与所述第二测量信号之间的差异。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述多个电光调制器包括至少一个另外的电光调制器，并且所述处理资源被进一步配置成对来自所述至少一个另外的电光调制器的至少一个另外的测量信号进行处理，以确定所述至少一个属性。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述处理资源被配置成对来自所述电光调制器中的第三电光调制器的第三测量信号和来自所述电光调制器中的第四电光调制器的第四测量信号进行处理。

5.根据权利要求4所述的设备，其中对所述第一测量信号和所述第二测量信号进行的所述处理是确定所述电子束团或其他带电粒子群在第一横向方向上的位置，且

对所述第三测量信号和所述第四测量信号进行的所述处理是确定所述电子束团在第二横向方向上的位置。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述第二横向方向基本正交于所述第一横向方向。

7.根据权利要求4-6中的任一项所述的设备，其中所述电子束团或其他带电粒子群的所述至少一个属性包括所述电子束团或其他带电粒子群的电荷，并且所述处理资源被配置成根据测量信号的总和来确定所述电荷。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述测量信号的总和包括或表示至少所述第一测量信号和所述第二测量信号的总和。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述测量信号的总和包括或表示至少所述第一测量信号、所述第二测量信号、所述第三测量信号和所述第四测量信号的总和。

10.根据权利要求1、4-6和8-9中的任一项所述的设备，其中从其获得所述第一测量信号的所述第一电光调制器从所述电极中的第一电极接收信号，并且从其获得所述第二测量信号的所述第二电光调制器从所述电极中的第二电极接收信号。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述电极中的所述第一电极与所述电极中的所述第二电极基本在直径上相对。

12.根据权利要求4-6和8-9中的任一项所述的设备，其中从其获得所述第三测量信号的所述第三电光调制器从所述电极中的第三电极接收信号，并且从其获得所述第四测量信号的所述第四电光调制器从所述电极中的第四电极接收信号。

13.根据权利要求12所述的设备，其中所述电极中的所述第三电极相对于电子束团路径与所述电极中的所述第四电极基本在直径上相对。