[发明专利]噻二唑并吡啶聚合物、其合成及其用途

权利要求书

1.聚合物，其包含

(i)呈第一摩尔比m₁的式(I)的第一单体单元M¹；

(ii)呈第二摩尔比m₂的式(II)的第二单体单元M²；

(iii)呈第三摩尔比m₃的一种或多种第三单体单元M³，其各自彼此独立地选自式(III)、式(IV)、式(V)及式(VI)，

(iv)呈第四摩尔比m₄的一种或多种第四单体单元M⁴，其各自彼此独立地为一个或多个电子供体，该电子供体包含选自以下的基团：芳基、杂芳基、*-(R⁸¹)C＝C(R⁸²)-*及乙炔二基(*-C≡C-*)，其中这样的芳基或杂芳基不同于式(I)至(VI)，及

(v)呈第五摩尔比m₅的式(VII)的第五单体单元M⁵，

其中，在每次出现时独立地，X¹及X²中的一者为N，并且另一者为C-R⁷¹，并且X³在每次出现时独立地选自以下：O、S、Te、Se及N-R⁹¹，

其中该聚合物包含单体单元M¹和单体单元M²，并且第一摩尔比m₁及第二摩尔比m₂之和为至少0.10且至多0.90，该第三摩尔比m₃为至少0且至多0.80，该第四摩尔比m₄为至少0且至多0.20，该第五摩尔比m₅为至少0.10且至多0.90，并且m₁+m₂+m₃+m₄+m₅＝1，其中各个摩尔比m₁至m₅是相对于单体单元M¹至M⁵的总数，和

其中，在每次出现时独立地，R¹¹至R¹⁴、R²¹至R²⁴、R³¹至R³⁴、R⁴¹至R⁴³、R⁵¹至R⁵⁸、R⁶¹至R⁶⁸、R⁷¹、R⁸¹至R⁸²及R⁹¹彼此独立地为H或碳基。

2.根据权利要求1的聚合物，其中包含于该聚合物中的至少50％的第一单体单元M¹包含在第一顺序单元S¹中，其中该第一单体单元M¹与至少一个式(VII)的单体单元相邻。

3.根据权利要求1的聚合物，其中包含于该聚合物中的至少50％的第二单体单元M²包含在第二顺序单元S²中，其中该第二单体单元M²与至少一个式(VII)的单体单元相邻。

4.根据权利要求1的聚合物，其中包含于该聚合物中的至少50％的第三单体单元M³包含在第三顺序单元S³中，其中该第三单体单元M³与至少一个式(VII)的单体单元相邻。

5.根据权利要求1的聚合物，其中包含于该聚合物中的至少50％的第四单体单元M⁴包含在第四顺序单元S⁴中，其中该第四单体单元M⁴与至少一个式(VII)的单体单元相邻。

6.根据权利要求1的聚合物，其中所述聚合物包含式(S-I)的顺序单元S¹