[发明专利]含氟溶剂的分离方法、含氟溶剂污染物的除去方法及其设备在审
申请号: | 201680027277.0 | 申请日: | 2016-03-04 |
公开(公告)号: | CN107847814A | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | 伊藤未希;松本刚德;菊地秀明 | 申请(专利权)人: | 杜邦三井氟化物株式会社 |
主分类号: | B01D12/00 | 分类号: | B01D12/00;C07C17/38 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 王伦伟,李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溶剂 分离 方法 污染物 除去 及其 设备 | ||
1.一种用于分离含氟溶剂的方法,所述方法包括用含有氟树脂的膜过滤两相混合的液体组合物,所述两相混合的液体组合物含有含氟溶剂、醇和水。
2.一种用于从含氟溶剂中除去含醇污染物的方法,所述方法包括:
将水加入并混合到含有所述含醇污染物的所述含氟溶剂中以制备两相混合的液体组合物,所述两相混合的液体组合物含有含氟溶剂、醇和水;并且然后通过用含有氟树脂的膜过滤所述两相混合的液体组合物来分离所述含氟溶剂。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述含氟溶剂为氢氟烃或氢氟醚。
4.一种用于执行根据权利要求1至3中任一项所述的方法的过滤分离设备,所述过滤分离设备包括含有氟树脂的膜。
5.一种清洁的含氟溶剂,其通过根据权利要求1至3中任一项所述的方法获得。
6.根据权利要求5所述的含氟溶剂,其中所述含氟溶剂用于半导体清洁。
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