[发明专利]湿式蚀刻方法和蚀刻液

权利要求书

1.一种湿式蚀刻方法，其特征在于，其是使用蚀刻液对基板上的含金属膜进行蚀刻的湿式蚀刻方法，

所述蚀刻液仅由β-二酮及有机溶剂形成，所述β-二酮是三氟甲基与羰基键合而成的β-二酮，

所述含金属膜包含能够与所述β-二酮形成络合物的金属元素，

所述金属元素是选自由Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Sn、Pb和As组成的组中的至少1种金属元素，

所述含金属膜是所述金属元素的单质的膜或者是包含所述金属元素的合金的膜。

2.一种湿式蚀刻方法，其特征在于，其是使用蚀刻液对基板上的含金属膜进行蚀刻的湿式蚀刻方法，

所述蚀刻液仅由β-二酮、有机溶剂及作为添加剂的过氧化物和酸中的至少一种形成，所述β-二酮是三氟甲基与羰基键合而成的β-二酮，

所述酸选自由柠檬酸、甲酸、乙酸和三氟乙酸组成的组中的至少一种，

所述含金属膜包含能够与所述β-二酮形成络合物的金属元素，

所述金属元素是选自由Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Sn、Pb和As组成的组中的至少1种金属元素，

所述含金属膜是所述金属元素的单质的膜或者是包含所述金属元素的合金的膜。

3.根据权利要求1或2所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述有机溶剂是选自由一级醇、二级醇、三级醇、苄醇、醚、酯、酮、胺、酰胺、甘醇、甘醇醚和卤代烷烃组成的组中的至少1种有机溶剂。

4.根据权利要求3所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述有机溶剂是选自由异丙醇、甲醇、乙醇、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲乙酮、和丙酮组成的组中的至少1种有机溶剂。

5.根据权利要求1或2所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述蚀刻液中的所述β-二酮的浓度为1～80质量％。

6.根据权利要求1或2所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述β-二酮是选自由六氟乙酰丙酮、三氟乙酰丙酮、1,1,1,6,6,6-六氟-2,4-己二酮、4,4,4-三氟-1-(2-噻吩基)-1,3-丁二酮、4,4,4-三氟-1-苯基-1,3-丁二酮、1,1,1,5,5,5-六氟-3-甲基-2,4-戊二酮、1,1,1,3,5,5,5-七氟-2,4-戊二酮和1,1,1-三氟-5,5-二甲基-2,4-己二酮组成的组中的至少1种。

7.根据权利要求6所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述β-二酮为六氟乙酰丙酮。

8.根据权利要求2所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述过氧化物是选自由过氧化氢、过乙酸、过碳酸钠、过硫酸铵、过硫酸钠、过硫酸钾和过氧硫酸钾组成的组中的至少1种。

9.根据权利要求1或2所述的湿式蚀刻方法，其特征在于，所述基板的材料为硅系半导体材料或硅酸盐玻璃材料。

10.一种对基板上的含金属膜进行蚀刻的蚀刻液，其仅由选自由异丙醇、甲醇、乙醇、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲乙酮和丙酮组成的组中的至少1种有机溶剂；及三氟甲基与羰基键合而成的β-二酮形成。

11.一种对基板上的含金属膜进行蚀刻的蚀刻液，其仅由选自由异丙醇、甲醇、乙醇、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲乙酮和丙酮组成的组中的至少1种有机溶剂；三氟甲基与羰基键合而成的β-二酮；以及作为添加剂的过氧化物和酸中的至少一种形成，所述酸选自由柠檬酸、甲酸、乙酸和三氟乙酸组成的组中的至少一种。