[发明专利]在竖直或大致竖直的位置中使用的流体盒

权利要求书

1.一种在大致竖直的位置中使用的流体盒，包括：

前部基板；

后部基板；

在所述前部基板与所述后部基板之间形成的液滴操作间隙；

在所述前部基板或所述后部基板上的多个电极；以及

一个或多个储液器，

其中，所述多个电极配置为沿着由所述前部基板和所述后部基板限定的大致竖直的平面输送液滴，

其中，所述前部基板包括至少一个U特征，所述U特征包括从所述前部基板的内表面突出的U形突出部，并且所述U特征配置为保持样品、反应混合物、试剂、填充流体、缓冲液、或废液，

其中，所述U特征对应于所述储液器，并且

其中，所述一个或多个储液器通过流动路径与所述液滴操作间隙流体连通。

2.如权利要求1所述的流体盒，其中，所述前部基板或所述后部基板是印刷电路板(PCB)。

3.如权利要求1所述的流体盒，其中，所述后部基板包括一个或多个流动路径。

4.如权利要求1所述的流体盒，其中，所述一个或多个储液器配置为保持试剂、填充流体、缓冲液、或废液。

5.如权利要求4所述的流体盒，其中，所述一个或多个储液器可以保持1-100ml的体积。

6.如权利要求4或5所述的流体盒，其中，所述一个或多个储液器集成到板中以形成储液器组件。

7.如权利要求4所述的流体盒，其中，所述一个或多个储液器中的每一个储液器通过上部流动路径和下部流动路径与所述液滴操作间隙流体连通。

8.如权利要求4所述的流体盒，其中，所述一个或多个储液器包括U形部分。

9.如权利要求3所述的流体盒，其中，所述液滴操作间隙在流动路径的位置处的高度大于所述液滴操作间隙的高度。

10.如权利要求1所述的流体盒，其中，所述U形突出部是多孔的。

11.如权利要求1所述的流体盒，其中，所述U形突出部的高度等于所述液滴操作间隙的高度。

12.如权利要求1所述的流体盒，其中，所述前部基板或后部基板包括一个或多个向下分配体积，所述向下分配体积配置为保持样品、反应混合物、试剂、或缓冲液。

13.如权利要求12所述的流体盒，其中，所述一个或多个向下分配体积包括具有不同高度的区段。

14.如权利要求1和7-13中的任一项所述的流体盒，其中，所述多个电极配置为从所述一个或多个U特征或从所述一个或多个向下分配体积输送液滴。

15.如权利要求14所述的流体盒，其中，所述多个电极配置为形成电润湿阵列。

16.如权利要求15所述的流体盒，其中，所述电润湿阵列包括试剂分配区域、反应区域、样品装载区域、废液收集区域、和检测区域。

17.如权利要求16所述的流体盒，其中，所述检测区域包括CMOS检测器。

18.如权利要求16所述的流体盒，其中，所述反应区域配置为进行从由PCR反应、测序反应、引物延伸反应和聚类反应组成的组中选择的核酸反应。

19.一种使用如权利要求1所述的流体盒进行反应的方法，包括：

向所述流体盒的液滴操作间隙提供反应液滴；以及

致动所述反应液滴以沿着所述液滴操作间隙竖直移动，

其中，所述流体盒在大致竖直的位置中操作。