[发明专利]黑化镀液、导电性基板在审
申请号: | 201680028736.7 | 申请日: | 2016-05-19 |
公开(公告)号: | CN107614757A | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 下地匠;志贺大树;岛村富雄 | 申请(专利权)人: | 住友金属矿山股份有限公司 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C25D7/00;H01B5/14 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 钟晶,钟海胜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 黑化镀液 导电性 | ||
技术领域
本发明涉及一种黑化镀液、导电性基板。
背景技术
电容式触控面板,通过检测接近面板表面的物体所引起的静电容量的变化,将该接近的物体于面板表面上的位置信息变换成电信号。电容式触控面板中使用的导电性基板被设置在显示器的表面,因此要求导电性基板的导电层的材料具有反射率低、不易目视判别的特性。
因此,作为电容式触控面板中使用的导电层的材料,使用反射率低、不易目视判别的材料,并在透明基板或透明薄膜上形成配线。
例如,专利文献1公开了一种包含高分子薄膜以及透明导电膜的透明导电性薄膜,该透明导电膜由在该高分子薄膜上通过气相成膜法形成的金属氧化物构成,还公开了作为由金属氧化物构成的透明导电膜使用氧化铟-氧化锡(ITO)膜的内容。
然而,近年来具备触控面板的显示器进而趋向大画面化,随之,用于触控面板的透明导电性薄膜等的导电性基板也被要求大面积化。可是,ITO因其电阻值高,而存在无法应对导电性基板的大面积化的问题。
对此,作为导电层的材料,在研究使用铜等金属来代替ITO的方法。然而,由于金属具有金属光泽,因反射会造成显示器的识别性降低的问题。因此,在研究导电层的表面经黑化处理,即通过干式法(dry method)形成黑色材料的层的导电性基板。
<现有技术文献>
<专利文献>
专利文献1:(日本)特开2003-151358号公报
发明内容
<本发明要解决的课题>
然而,历来研究的黑色材料,无法对采用铜等金属的导电层表面的光反射进行充分抑制。另外,若要通过干式法对导电层表面进行充分的黑化处理,需要时间,而生产率低。
鉴于现有技术中的上述问题,本发明的一个形态的目的在于提供一种用于形成能够充分抑制金属层表面的光反射的黑化层的黑化镀液。
<解决上述课题的手段>
为了解决上述问题,本发明的一个形态,提供一种包含硫酸镍(Nickel sulfate)、硫酸锌(Zinc sulfate)、氨基磺酸(Amido sulfuric acid),且pH值为4.0以上6.5以下的黑化镀液。
<发明的效果>
根据本发明的一个形态,能够提供一种黑化镀液,其用于形成能够充分抑制金属层表面的光反射的黑化层。
附图说明
图1A是本发明的实施方式的导电性基板的剖面图。
图1B是本发明的实施方式的导电性基板的剖面图。
图2A是本发明的实施方式的导电性基板的剖面图。
图2B是本发明的实施方式的导电性基板的剖面图。
图3是本发明的实施方式的具有网格状配线的导电性基板的俯视图。
图4A是沿着图3中的A-A’线的剖面图。
图4B是沿着图3中的A-A’线的剖面图。
具体实施方式
以下,关于本发明的黑化镀液、导电性基板的一实施方式进行说明。
(黑化镀液)
本实施方式的黑化镀液可包含硫酸镍、硫酸锌及氨基磺酸,且pH值为4.0以上6.5以下。
关于如何以高生产率形成可充分抑制金属层表面的光反射的黑化层的方法,本发明的发明者们进行了锐意研究。
历来,黑化处理采用干式法,因此生产率较低。对此,本发明的发明者们,为了以高生产率形成黑化层,研究了采用湿式法形成黑化层的方法。从而,就适于进行黑化层成膜的黑化镀液进行了研究。
在研究黑化镀液的过程中,本发明的发明者们发现,作为黑化层通过使用包含镍与锌的层,能够抑制金属层表面的光反射,从而能够抑制导电性基板的反射率。由此,黑化镀液优选是能够形成包含镍与锌的层的镀液。
因此,本实施方式的黑化镀液可以包含硫酸镍与硫酸锌。并且,通过包含具有络合剂功效的氨基磺酸,能够抑制所形成的黑化层中产生色斑。
在此,黑化镀液的pH值小于4.0时,形成的黑化层有时并不能成为可充分抑制光反射的颜色,因此pH值优选为4.0以上。另外,黑化镀液的pH值超过6.5时,黑化镀液成分的一部分有时会发生析出等,若使用该黑化镀液形成黑化层,则有可能在黑化层形成色斑。因此,黑化镀液的pH值优选为6.5以下。
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