[发明专利]一种微光刻投射曝光设备的光学系统

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其中所述投射曝光设备具有照明装置和投射镜头，其中位于使用光管(205，305)中的光，在所述投射曝光设备的操作期间，从所述照明装置的入口经由所述投射镜头的物平面传输至所述投射镜头的像平面，所述使用光管为所述光在其中传输的体积，所述光学系统具有：

·至少一个薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)，其具有至少一个反射元件(211，212，311，312，511，512，611，612)，以及

·至少一个射束收集器(250)；

·其中所述薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)布置成朝向所述至少一个射束收集器(250)反射光，所述光在所述投射曝光设备的操作期间至少临时地入射至所述薄层布置上且不属于所述使用光管(205，305)；

·其中所述光学系统还具有至少一个光阑，其中所述薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)与该光阑分隔开，并且布置在距离该光阑小于200mm的距离处；以及

·其中所述薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)具有多个反射薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)，所述多个反射薄层在所述使用光管中所述光的传播方向上叠置，以及全部所述多个反射薄层布置为关于所述光学系统的光学系统轴线倾斜。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光阑是为数值孔径定界的孔径光阑(230，330)，其布置在所述投射镜头中。

3.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光阑是掩模母版遮蔽系统(REMA)的REMA光阑(531，532，631，632)，其布置在所述照明装置中。

4.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统，其特征在于，至少一个反射薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)布置成使得在所述投射曝光设备的操作期间，光至少临时地以关于表面法线的至少65°的入射角入射。

5.根据权利要求4所述的光学系统，其特征在于，所有反射薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)布置成使得在所述投射曝光设备的操作期间，光至少临时地以关于表面法线的至少65°的入射角入射至各薄层。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其特征在于，至少两个薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)布置为关于所述光学系统轴线倾斜，所述倾斜彼此不同。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述薄层布置(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)布置成能够移动。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述至少一个薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)具有由层材料制成的反射层，所述层材料选自于包含钌，钼，硅，镧，硼，碳化硼和铑的组。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其特征在于，该光学系统设计用于小于30nm的工作波长。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其特征在于，该光学系统设计用于小于15nm的工作波长。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其特征在于，该光学系统设计用于小于8nm的工作波长。

12.一种微光刻投射曝光设备(10)，具有光照明装置和投射镜头，其特征在于，所述投射曝光设备具有根据前述权利要求中任一项所述的光学系统。