[发明专利]要求有耐候性的涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物以及其的制造方法有效
申请号: | 201680029533.X | 申请日: | 2016-10-05 |
公开(公告)号: | CN107614636B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 榎村真一;本田大介 | 申请(专利权)人: | M技术株式会社 |
主分类号: | C09D201/00 | 分类号: | C09D201/00;C09C1/04;C09C1/24;C09C3/06;C09C3/08;C09D7/61;C01G9/02;C01G49/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 吴宗颐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 要求 有耐候性 涂饰 氧化物 被覆 组合 及其 制造 方法 | ||
1.一种涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物,其特征在于,
所述涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物为,与构成要求有耐候性的涂饰体的涂料配合而使用的涂饰用组合物,
并包括硅氧化物被覆氧化物粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子具备对氧化物粒子的表面的至少一部分进行被覆的硅氧化物,
所述氧化物粒子为氧化锌粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子为采用硅氧化物对1个氧化物粒子的表面的至少一部分进行了被覆的粒子,所述氧化物粒子的大小为100nm以下,并且,所述硅氧化物被覆氧化物粒子的一次粒子径为所述氧化物粒子的一次粒子径的100.5%以上、190%以下,所述硅氧化物被覆氧化物粒子被构成为,相对于380-780nm的光线的反射率高于表面未被覆硅氧化物的氧化物粒子。
2.一种涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物,其特征在于,
所述涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物为,与构成要求有耐候性的涂饰体的涂料配合而使用的涂饰用组合物,
并包括硅氧化物被覆氧化物粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子具备对氧化物粒子的表面的至少一部分进行被覆的硅氧化物,
所述氧化物粒子为氧化锌粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子为,对多个氧化物粒子凝聚而成的凝聚体的表面的至少一部分用硅氧化物进行被覆的粒子,所述凝聚体的大小为100nm以下,并且,所述硅氧化物被覆氧化物粒子的粒子径为所述凝聚体的直径的100.5%以上、190%以下,所述硅氧化物被覆氧化物粒子被构成为,相对于380-780nm的光线的反射率高于表面未被覆硅氧化物的氧化物粒子。
3.一种涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物,其特征在于,
所述涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物为,与构成要求有耐候性的涂饰体的涂料配合而使用的涂饰用组合物,
并包括硅氧化物被覆氧化物粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子具备对氧化物粒子的表面的至少一部分进行被覆的硅氧化物,
所述氧化物粒子为氧化铁粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子为采用硅氧化物对1个氧化物粒子的表面的至少一部分进行了被覆的粒子,所述氧化物粒子的大小为50nm以下,并且,所述硅氧化物被覆氧化物粒子的一次粒子径为所述氧化物粒子的一次粒子径的100.5%以上、190%以下,
所述硅氧化物被覆氧化物粒子被构成为,相对于550-800nm的光线的反射率低于表面未被覆硅氧化物的氧化物粒子。
4.一种涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物,其特征在于,
所述涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物为,与构成要求有耐候性的涂饰体的涂料配合而使用的涂饰用组合物,
并包括硅氧化物被覆氧化物粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子具备对氧化物粒子的表面的至少一部分进行被覆的硅氧化物,
所述氧化物粒子为氧化铁粒子,所述硅氧化物被覆氧化物粒子为,对多个氧化物粒子凝聚而成的凝聚体的表面的至少一部分用硅氧化物进行被覆的粒子,所述凝聚体的大小为50nm以下,并且,所述硅氧化物被覆氧化物粒子的粒子径为所述凝聚体的直径的100.5%以上、190%以下,
所述硅氧化物被覆氧化物粒子被构成为,相对于550-800nm的光线的反射率低于表面未被覆硅氧化物的氧化物粒子。
5.权利要求3或4所述的涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物,其特征在于,
在所述硅氧化物被覆氧化物粒子中含有作为官能基的乙酰基。
6.权利要求1至4任一项所述的涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物,其特征在于,
所述硅氧化物包括非晶质。
7.权利要求1至4任一项所述的涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物的制造方法,其特征在于,
通过以对非晶质的硅氧化物的有无、和乙酰基的有无进行选择的方式来制造所述硅氧化物被覆氧化物粒子,该非晶质的硅氧化物对所述氧化物粒子的表面的至少一部分进行被覆,该乙酰基为所述硅氧化物被覆氧化物粒子中所含有的官能基。
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