[发明专利]用于单分子DNA分析的纳米通道的动态形成

权利要求书

1.用于DNA分析的装置，包括：

可变形的基础层，其包括通道区，所述基础层之上设置有样品微米通道；

在所述基础层的通道区内形成的深度为100纳米或更小的一条或多条纳米缝，所述纳米缝设置在所述装置的纵向方向上；和

置于基础层之上的夹层，使得在所述夹层的中央部分和所述基础层之间形成所述样品微米通道，所述一条或多条纳米缝朝向所述微米通道开放，

其中所述夹层包括面向所述纳米缝的下表面和与所述下表面相对的上表面，

其中所述装置被配置为使得，当向夹层的上表面施加压力时，夹层的下表面被压入所述纳米缝中并与其底部表面接触，由此在所述纳米缝中形成纳米通道。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述纳米通道从纵向观测时具有三角形的横截面。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述基础层是可变形的聚合物。

4.如权利要求3所述的装置，其中所述基础层是聚二甲基硅氧烷。

5.如权利要求1所述的装置，其中所述夹层是可变形的聚合物。

6.如权利要求5所述的装置，其中所述夹层是聚二甲基硅氧烷。

7.如权利要求1所述的装置，其还包括置于夹层上方的控制层，其中所述控制层具有在其中形成的、位于控制层的一部分与夹层的一部分之间的控制微米通道。

8.如权利要求7所述的装置，其中所述控制层是可变形的聚合物。

9.如权利要求8所述的装置，其中所述控制层是聚二甲基硅氧烷。

10.如权利要求1所述的装置，其还包括置于基础层下方的刚性基底。

11.如权利要求10所述的装置，其中所述刚性基底是盖玻片。

12.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的宽度为1微米或更大。

13.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的深度为50纳米或更小。

14.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的深度为30纳米或更小。

15.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的深度为20纳米或更小。

16.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的深度为10纳米至20纳米。

17.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的深度为20纳米。

18.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述纳米缝的长度为10微米至10毫米。

19.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中每条纳米通道的宽度是相同的，深度是相同的。

20.如权利要求1-11中任何一项所述的装置，其中所述样品微米通道呈圆顶形。

21.如权利要求7-9中任何一项所述的装置，其中所述控制微米通道从纵向观测时具有矩形的横截面。

22.如权利要求7-9中任何一项所述的装置，其中所述控制微米通道的长度与每条纳米缝的长度相同，并且宽度为1微米至900微米。