[发明专利]具有脱敏剂的起泡洁齿剂

权利要求书

1.一种口腔护理组合物，其包含：

a)阴离子表面活性剂；

b)阳离子或两性表面活性剂；以及

c)钾盐；

其中所述口腔护理组合物不含非离子表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，还包含增稠剂。

3.根据权利要求2所述的口腔护理组合物，其中所述增稠剂选自羧甲基纤维素、黄原胶和甲基乙烯基醚/马来酸共聚物。

4.根据权利要求2所述的口腔护理组合物，其中所述增稠剂以0.1重量％至1.8重量％，优选地0.2重量％至1.00重量％，最优选地0.4重量％至0.65重量％的量存在。

5.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，其中所述阴离子表面活性剂为含硫脂肪族表面活性剂。

6.根据权利要求5所述的口腔护理组合物，其中所述含硫脂肪族表面活性剂为月桂基硫酸钠(SLS)。

7.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，其中所述阳离子或两性表面活性剂为甜菜碱。

8.根据权利要求7所述的口腔护理组合物，其中所述甜菜碱为椰油酰胺丙基甜菜碱(CAPB)。

9.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，其中所述组合物还包含锌离子源。

10.根据权利要求9所述的口腔护理组合物，其中所述锌离子源为选自柠檬酸锌、氧化锌、乙酸锌、葡萄糖酸锌、甘氨酸锌、硫酸锌、磷酸锌和柠檬酸锌钠的至少一种。

11.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，其中所述组合物还包含二氧化硅。

12.根据权利要求11所述的口腔护理组合物，其中所述二氧化硅是磨料二氧化硅和/或增稠二氧化硅或其组合中的至少一种。

13.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，其中所述组合物还包含牙垢控制剂。

14.根据权利要求13所述的口腔护理组合物，其中所述牙垢控制剂为焦磷酸四钾，并且所述牙垢控制剂的总浓度为1重量％至4重量％，优选地2重量％至3重量％，优选地2.4重量％至2.6重量％，2.4重量％或2.5重量％。

15.根据权利要求13所述的口腔护理组合物，其中所述牙垢控制剂为焦磷酸四钠，并且所述牙垢控制剂的总浓度为0.2重量％至0.8重量％，优选地0.3重量％至0.7重量％，优选地0.4重量％至0.6重量％，或优选地0.5重量％。

16.根据权利要求1所述的口腔护理组合物，其中所述钾盐为硝酸钾。