[发明专利]基于嘌呤的腐蚀抑制剂

权利要求书

1.一种用于抑制与包含氧化卤素化合物的含水系统接触的金属表面的腐蚀的方法，所述方法包含将式(I)化合物添加到所述含水系统，

其中X选自以下组成的组：-NH₂、-OH、-SH和卤素；

Y选自以下组成的组：氢、芳基、杂芳基、C₁-C₁₆烷基、C₂-C₁₆烯基、C₂-C₁₆炔基、C₃-C₈环烷基、苯甲基、烷基杂芳基、卤素、经卤基取代的烷基、氨基、氨基烷基、氰基、烷氧基、羟基、硫醇、烷硫基、羰基、硝基、磷酰基、膦酰基和磺酰基；

R¹选自以下组成的组：氢、氘、C₁-C₁₆烷基、芳基、C₂-C₁₆烯基、C₂-C₁₆炔基、杂芳基、C₃-C₈环烷基、苯甲基、烷基杂芳基、卤素、羟基和羰基；以及

R²选自以下组成的组：氢、芳基、杂芳基、苯甲基、烷基杂芳基、C₂-C₁₆烯基、C₂-C₁₆炔基、C₃-C₈环烷基和C₁-C₁₆烷基；或

其盐；

其中以0.01ppm到100ppm的剂量将所述式(I)化合物添加到所述含水系统中；和

其中所述金属表面包括铜、铜合金或软钢。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述式(I)化合物为

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述式(I)化合物为

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述式(I)化合物为

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属表面包含铜或铜合金。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述氧化卤素选自以下组成的组：次氯酸盐、氯、溴、次溴酸盐、二氧化氯、碘、次碘酸、次溴酸、卤代乙内酰脲或其组合。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述含水系统为冷却水系统。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属的腐蚀速率为0.2mpy或更低。