[发明专利]提供有具有热性质的含金属末端层和氧化物前-末端层的堆叠体的基材

说明书

本发明涉及在一个面(29)上涂覆有薄层堆叠体(14)的基材(30)，所述薄层堆叠体包含至少一个金属功能层(140)，所述堆叠体包含末端层(168)和前‑末端层(167)，该末端层是该堆叠体的离所述面(29)最远的层，该末端层包含至少一种金属M₂，所述金属是在具有氧化还原电位γ₂的氧化物/金属对中的还原剂，并且该末端层(168)处于金属状态，该前‑末端层是该堆叠体的在所述面(29)的方向上位于所述末端层(168)正下方并与末端层接触的层，该前‑末端层包含至少一种金属M₁，所述金属是在具有氧化还原电位γ₁的氧化物/金属对中的氧化剂，并且所述前‑末端层(167)处于至少部分氧化的状态，其特征在于，所述氧化还原电位γ₁大于所述氧化还原电位γ₂。

本发明涉及一种在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体的基材，所述堆叠体包含至少一个金属功能层，特别地基于银或含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层，所述涂层每个包含至少一个电介质层，所述功能层被设置于所述两个抗反射涂层之间，所述堆叠体还包含末端层，所述末端层是所述堆叠体中离所述面最远的层。

在这种类型的堆叠体中，功能层因此被设置于两个抗反射涂层之间，每个抗反射涂层通常包括多个层，每个层由氮化物类型的电介质材料，特别地氮化硅或氮化铝类型，或氧化物类型的电介质材料制成。从光学的观点来看，围绕该或每个金属功能层的这些涂层的目的是使该金属功能层“抗反射”。

然而，有时在一个或每个抗反射涂层和金属功能层之间插入阻挡涂层；在任选的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间，位于功能层下面(在基材的方向上)的阻挡涂层保护功能层，并且位于功能层上方(在与基材相反的一侧)的阻挡涂层在上抗反射涂层的沉积期间以及在任选的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间保护该功能层不受可能的损害。

本发明更特别地涉及堆叠体的末端层的使用，其中该末端层离基材的面(在其上沉积该堆叠体)最远，和借助于产生辐射（特别地红外辐射）的源的处理来实施对整个薄层堆叠体的处理。

特别地从国际专利申请No.WO2010/142926中已知，提供吸收层作为堆叠体的末端层，并且在堆叠体沉积之后施加处理以降低辐射率或改善低辐射堆叠体的光学性质。使用金属末端层允许增加吸收并降低处理所需的功率。由于在处理期间末端层氧化并变得透明，所以在处理之后的堆叠体的光学特性是有利的(特别地可以获得高透光率)。

然而，由于用于处理的源的不均匀性和/或传送系统的不完善性(其速度从来不是绝对恒定的)，该解决方案对于某些应用来说并不是完全令人满意的。

这反映在眼睛可见的光学不均匀性(光透射率/反射的变化以及从一点到另一点的颜色变化)。

本发明的目的是通过开发具有一个或多个功能层的新型层堆叠体来克服现有技术的缺点，所述堆叠体在处理之后具有低薄层电阻(并因此具有低辐射率)，高透光率，以及外观均匀性(无论在透射和反射中)。

另一个重要的目标允许更快地进行处理，从而降低它的成本。

因此，本发明的主题在其最广泛的意义上是一种基材。这种基材在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体，该堆叠体包含至少一个金属功能层，特别地基于银或含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层，所述涂层各自包括至少一个电介质层，所述功能层位于两个抗反射涂层之间，所述堆叠体包含，一方面距离所述表面最远的该堆叠体层的末端层，其包含至少一种金属M₂，所述金属是在具有氧化还原电位γ₂的氧化物/金属对中的还原剂，并且所述末端层处于金属状态，和另一方面前-末端层(pré-terminale)，其是该堆叠体的正好位于所述末端层下方并与其接触的(在所述面的方向上)层，所述层包含至少一种金属M₁，所述金属是在具有氧化还原电位γ₁的氧化物/金属对中的还原剂，并且所述前-末端层处于至少部分氧化的状态。