[发明专利]丝裂霉素C的纯化方法

说明书

技术领域

本发明涉及丝裂霉素C的纯化方法等。

背景技术

丝裂霉素C是通过培养头状链霉菌(Streptomyces caespitosus)的菌株而得到的抗肿瘤性抗生素，其被广泛应用于临床。

一直以来，作为从通过培养上述菌株而得到的培养液来纯化丝裂霉素C的方法，已知下述方法：向分离菌体而得到的培养滤液中加入活性炭进行吸附，并用有机溶剂进行洗脱的活性炭吸附法；或者，将从培养滤液转溶于有机溶剂而得到的丝裂霉素C的浓缩液供于氧化铝色谱法或逆流分配法进行纯化后，将洗脱得到的丝裂霉素C溶液浓缩直到干燥为止，向其中添加少量的丙酮，由此得到晶体的方法(专利文献1)。

另外，下述方法是已知的：使培养液吸附于反相吸附树脂后，用丙酮、甲醇或乙醇等溶剂进行洗脱，浓缩洗脱液并除去溶剂，食盐饱和后转溶于氯仿，将氯仿萃取液供于氧化铝柱色谱，进行分离洗脱，将洗脱液浓缩并制成浓厚甲醇溶液后，向其中加入醚、石油醚、汽油或粗石油(ligroin)而得到丝裂霉素C的纯晶体，并进一步浓缩母液，进行同样的操作，将得到的粗晶体使用10％甲醇、醚混合液进行洗涤，由此得到丝裂霉素C的纯晶体(专利文献2)。

另外，下述方法也是已知的：使培养液吸附于反相吸附树脂后，用乙酸乙酯将丝裂霉素C洗脱，对洗脱液进行蒸馏并除去溶剂，继而使残余物吸附于粒径小的反相吸附剂，然后用含水甲醇洗脱，使洗脱液吸附于反相吸附树脂，使用甲醇从该树脂中洗脱丝裂霉素C，浓缩洗脱液，使丝裂霉素C析晶(专利文献3)。

此外，利用包含能溶解丝裂霉素C的溶剂和不良溶剂的组合的溶剂体系来制造丝裂霉素C的晶体的方法是已知的(专利文献4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特公昭35-17897号公报

专利文献2：日本特公昭36-9094号公报

专利文献3：日本特开平4-187092号公报

专利文献4：日本特开2001-31680号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在用于注射剂的丝裂霉素C及注射剂丝裂霉素C中，出现了源于丝裂霉素C的不溶性微粒的数量急剧增多而产生不符合“每个容器中的10μm以上的微粒为6000个以下、以及25μm以上的微粒为600个以下”的注射剂标准(第16版日本药典-注射剂的不溶性微粒试验法)的注射剂丝裂霉素C的事例。因此，为了制造用于注射剂的丝裂霉素C及注射剂丝裂霉素C，需要改善丝裂霉素C的粗晶体的纯化方法。

本发明的目的在于，提供可抑制不溶性微粒的经时增加的丝裂霉素C的纯化方法等。

用于解决课题的手段

本申请的发明人进行了锐意研究，结果发现，对丝裂霉素C的粗晶体进行纯化时，通过使用高纯度甲醇，可稳定地得到不溶性微粒的经时增加被抑制的丝裂霉素C。

本发明涉及例如以下(1)～(23)。

(1)丝裂霉素C的纯化方法，其特征在于，包括使用高纯度甲醇来进行丝裂霉素C的粗晶体的结晶化的工序。

(2)如(1)所述的纯化方法，其中，高纯度甲醇的纯度为99.00～99.99％。

(3)如(1)所述的纯化方法，其中，高纯度甲醇的纯度为99.50～99.99％。

(4)如(1)～(3)中任一项所述的纯化方法，其中，高纯度甲醇中的各金属浓度的总和为0.01～300ppb。

(5)如(1)～(3)中任一项所述的纯化方法，其中，高纯度甲醇中的各金属浓度的总和为0.01～100ppb。

(6)如(1)～(3)中任一项所述的纯化方法，其中，高纯度甲醇中的锌浓度为0.01～100ppb。

(7)如(1)～(3)中任一项所述的纯化方法，其中，高纯度甲醇中的锌浓度为0.01～10ppb。

(8)丝裂霉素C，其是利用(1)～(7)中任一项所述的纯化方法得到的。

(9)减少不溶性微粒生成的减量方法，其特征在于，包括使用高纯度甲醇来进行丝裂霉素C的粗晶体的结晶化的工序。

(10)如(9)所述的减量方法，其中，高纯度甲醇的纯度为99.00～99.99％。

(11)如(9)所述的减量方法，其中，高纯度甲醇的纯度为99.50～99.99％。

(12)如(9)～(11)中任一项所述的减量方法，其中，高纯度甲醇中的各金属浓度的总和为0.01～300ppb。

(13)如(9)～(11)中任一项所述的减量方法，其中，高纯度甲醇中的各金属浓度的总和为0.01～100ppb。