[发明专利]表面处理组合物有效

专利信息
申请号: 201680032416.9 申请日: 2016-06-01
公开(公告)号: CN107980071B 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 阿格尼丝·鲁索;斯蒂芬·泰勒 申请(专利权)人: 埃托特克德国有限公司
主分类号: C23C22/34 分类号: C23C22/34;C23C22/80;C23C22/83;C09D5/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王潜;郭国清
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 组合
【权利要求书】:

1.一种酸性含水组合物的用途,其中所述酸性含水组合物用作锆预处理的金属基基底表面的后处理以备随后电涂已处理的表面,所述组合物包含:

a.三价铬离子;

b.六氟锆酸根离子;

其中三价铬离子源是硝酸三价铬盐,

其中所述锆预处理的金属基基底表面是通过用包含六氟锆酸根离子的无铬离子的含水组合物预处理来获得的。

2.根据权利要求1所述的用途,其中所述三价铬离子的浓度在10mg/L和5000mg/L之间。

3.根据权利要求1或2所述的用途,其中所述硝酸三价铬盐是Cr(NO3)3或者Cr(NO3)3·9H2O。

4.根据权利要求1或2所述的用途,其中六氟锆酸根离子的浓度独立地在10mg/L和10000mg/L之间。

5.根据权利要求1或2所述的用途,其中六氟锆酸根离子源独立地选自六氟锆酸、六氟锆酸铵、碱金属六氟锆酸盐、碱土金属六氟锆酸盐和过渡金属六氟锆酸盐。

6.根据权利要求1或2所述的用途,其中pH值在2.0和5.5之间。

7.根据权利要求1或2所述的用途,其中所述组合物不含加入的硫酸根离子和氯离子。

8.根据权利要求1或2所述的用途,其中所述组合物不含加入的镁离子、镍离子和锌离子。

9.一种用于后处理锆预处理的金属基基底表面的方法,所述方法包括:

i.提供所述的基底;

ii.用根据前述权利要求1-8中任一项所述的酸性含水组合物处理所述基底表面。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述锆预处理的金属基基底表面是锆预处理的钢基底表面或者锆预处理的铝基底表面或者锆预处理的铝合金基底表面。

11.根据权利要求9和10中任一项所述的方法,其中根据步骤ii.的处理是通过在20℃和25℃之间的温度下将所述酸性含水组合物喷涂到所述锆预处理的金属基基底表面上来进行的。

12.根据权利要求9或10所述的方法,其中在步骤ii之前,所述锆预处理的金属基基底表面来源于步骤i1.用包含六氟锆酸根离子的无铬离子的含水组合物处理金属基基底表面,来获得所述锆预处理的金属基基底表面。

13.根据权利要求12所述的方法,其中根据步骤i1的无三价铬离子的含水组合物的pH在4.0和5.0之间,且根据步骤i1的无三价铬离子的含水组合物的六氟锆酸根离子浓度在100mg/L和5000mg/L之间。

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