[发明专利]确定多重图案化步骤叠加误差有效
申请号: | 201680032566.X | 申请日: | 2016-06-06 |
公开(公告)号: | CN107743596B | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | A·古普塔;夏清;O·莫罗;K·拉娅 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01J37/22 |
代理公司: | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 确定 多重 图案 步骤 叠加 误差 | ||
1.一种经配置以确定在多重图案化步骤工艺中印刷于晶片上的设计的不同图案化特征之间的叠加误差的系统,所述系统包括:
输出获取子系统,其包括至少一能量源及检测器,其中所述能量源经配置以产生引导到晶片的能量,其中所述检测器经配置以从所述晶片检测能量且响应于所述检测到的能量产生输出,其中第一及第二图案化特征分别使用第一及第二图案化步骤印刷于所述晶片的层级上,且其中所述晶片的所述层级的设计包括所述第一图案化特征的设计和所述第二图案化特征的设计;及
一或多个计算机子系统,其经配置以用于:
通过使所述第一图案化特征的所述设计对准到从所述输出产生的所述晶片的图像中的所述第一图案化特征而使所述晶片的所述层级的所述设计对准到所述图像,借此使所述层级的全部所述设计对准到所述第一图案化特征;
通过仅使所述第二图案化特征的所述设计仅对准到所述图像中的所述第二图案化特征,而仅将所述第二图案化特征的所述设计从通过所述对准全部所述设计而确定的所述第二图案化特征的所述设计的位置偏移到所述第二图案化特征的所述设计的偏移位置;及
确定所述第二图案化特征的所述设计的所述位置与所述第二图案化特征的所述设计的所述偏移位置之间的偏差,其中所述偏差等于所述晶片上的所述第一图案化特征与所述晶片上的所述第二图案化特征之间的相对叠加误差。
2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述晶片的所述层级的所述设计进一步包括第三图案化特征的设计,其中所述第三图案化特征使用第三图案化步骤印刷于所述晶片的所述层级上,且其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于:
通过仅使所述第三图案化特征的所述设计仅对准到所述图像中的所述第三图案化特征,而仅将所述第三图案化特征的所述设计从通过所述对准全部所述设计而确定的所述第三图案化特征的所述设计的位置偏移到所述第三图案化特征的所述设计的偏移位置;及
确定所述第三图案化特征的所述设计的所述位置与所述第三图案化特征的所述设计的所述偏移位置之间的偏差,其中所述第三图案化特征的所述偏差等于所述晶片上的所述第一图案化特征与所述晶片上的所述第三图案化特征之间的相对叠加误差。
3.根据权利要求2所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于基于针对所述第二图案化特征确定的所述偏差及针对所述第三图案化特征确定的所述偏差而确定所述晶片上的所述第二图案化特征与所述晶片上的所述第三图案化特征之间的相对叠加误差。
4.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于确定所述设计中的所述第一及第二图案化特征的基于设计的中心线及所述设计中的空间的基于设计的中心线。
5.根据权利要求4所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于确定所述图像中的所述第一及第二图案化特征的基于图像的中心线及所述图像中的所述空间的基于图像的中心线。
6.根据权利要求5所述的系统,其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于确定1)在所述图像中的所述第一图案化特征的所述基于图像的中心线中的每一者的位置与经确定用于所述第一图案化特征的所述基于设计的中心线中的对应一者的位置之间的额外偏差,与2)在所述图像中的所述第一图案化特征之间的所述空间的所述基于图像的中心线中的每一者的位置与经确定用于所述第一图案化特征之间的所述空间的所述基于设计的中心线中的对应一者的位置之间的额外偏差,且其中相对于通过所述对准全部所述设计而确定的所述第一图案化特征的所述设计的位置来确定用以确定所述额外偏差的所述基于设计的中心线中的所述对应一者中的每一者的所述位置。
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