[发明专利]使用光线跟踪渲染以生成可见性流

权利要求书

1.一种用于图形处理的方法，其包括：

将渲染目标分割成多个组格，其中所述渲染目标包含多个基元以及多个像素；

使用光线跟踪执行可见性遍次以生成可见性流，其中使用光线跟踪生成所述可见性流包括：

使光线投射穿过所述渲染目标的每个像素；

执行光线相交测试以确定针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见；以及

基于所述光线相交测试，生成所述可见性流，使得所述可见性流指示针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见；并且

针对所述多个组格中的每个组格，使用光栅化来渲染相应组格中的在所述可见性流中指示为在所述组格中可见的每个基元。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述多个基元中的每个基元是三角形。

3.根据权利要求1所述的方法，其中执行光线相交测试以确定哪些基元在所述组格中可见包含光线-包围盒相交测试和光线-三角形相交测试。

4.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在执行所述可见性遍次时生成多个可见性探试。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述可见性探试针对所述多个组格中的每个组格包含以下各项中的至少一个：过度绘制比率、像素更新比率或场景复杂度。

6.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在生成所述可见性流时动态地更新多个可见性统计计数器。

7.根据权利要求6所述的方法，其中执行动态地更新所述多个可见性统计计数器，使得针对所述多个组格中的每个组格，所述多个可见性统计计数器中的至少一个计数器动态地累积以下各项中的至少一个：命中所述组格的基元的总数量、在所述组格中实际上可见的基元的总数量、命中所述组格的基元的所述总数量和在所述组格中实际上可见的基元的所述总数量的总和，或所述组格中完全覆盖的粗糙像素和总像素的数量。

8.根据权利要求7所述的方法，其进一步包括：在生成所述可见性流的同时以及在更新所述多个可见性统计计数器的同时，动态地生成多个可见性探试，其中所述可见性探试针对所述多个组格的每个组格包含以下各项中的至少一个：过度绘制比率、像素更新比率，或场景复杂度。

9.一种用于图形处理的装置，其包括：

存储器；以及

至少一个处理单元，其经配置以进行以下操作：

将渲染目标分割成多个组格，其中所述渲染目标包含多个基元以及多个像素；

使用光线跟踪执行可见性遍次以生成可见性流，其中生成所述可见性流包括：

使光线投射穿过所述渲染目标的每个像素；

执行光线相交测试以确定针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见；以及

基于所述光线相交测试，生成所述可见性流，使得所述可见性流指示针对所述多个组格中的每个组格，哪些基元在所述组格中可见；并且

针对所述多个组格中的每个组格，使用光栅化来渲染相应组格中的在所述可见性流中指示为在所述组格中可见的每个基元。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述至少一个处理单元包含图形处理单元GPU。

11.根据权利要求9所述的装置，其中所述至少一个处理单元进一步经配置使得所述多个基元中的每个基元是三角形。

12.根据权利要求9所述的装置，其中所述至少一个处理单元经配置以执行光线相交测试以确定哪些基元在所述组格中可见，方法如下：执行光线-包围盒相交测试和执行光线-三角形相交测试。

13.根据权利要求9所述的装置，所述至少一个处理单元进一步经配置以在执行所述可见性遍次时生成多个可见性探试。