[发明专利]防静电膜及其制造方法、偏振片以及液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201680035112.8 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN107710028A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 円谷学;下出真菜 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: G02B1/16 分类号: G02B1/16;B32B7/02;B32B27/18;G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 代理人: 袁波,刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 静电 及其 制造 方法 偏振 以及 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种防静电膜,具有:

基材膜层,其由包含含有脂环式结构的聚合物的热塑性树脂形成;以及

防静电层,其设置在所述基材膜层上,包含具有导电性的金属氧化物粒子,其中,

所述防静电层的表面电阻值为1.0×106Ω/□以上且1.0×1010Ω/□以下,

所述防静电层的表面的图像清晰度为90以上。

2.如权利要求1所述的防静电膜,其中,

在所述基材膜层的与所述防静电层相反侧的面具有掩蔽膜。

3.如权利要求2所述的防静电膜,其中,

所述掩蔽膜在所述基材膜层侧的面与所述基材膜层相接,

与所述基材膜层相接的所述掩蔽膜的面的算术平均粗糙度Ra和凹凸间的平均间隔Sm满足下述式(i)和式(ii),

Ra<0.08μm式(i)

Sm>0.6mm式(ii)。

4.如权利要求1~3中任1项所述的防静电膜,其中,

所述基材膜层依次具有第一表面层、中间层及第二表面层,

所述中间层包含紫外线吸收剂,

所述基材膜层的厚度为10μm以上且60μm以下,

所述基材膜层的波长380nm时的光线透过率为10%以下。

5.如权利要求1~4中任1项所述的防静电膜,其中,

所述防静电层具有单层结构,

所述防静电层的厚度为0.8μm~10.0μm。

6.如权利要求1~5中任1项所述的防静电膜,其中,

所述防静电层与所述基材膜层的折射率差为0.03以下。

7.如权利要求1~6中任1项所述的防静电膜,其中,

所述防静电膜的雾度值为0.3%以下。

8.如权利要求1~7中任1项所述的防静电膜,其中,

所述防静电膜是收卷成辊状的长条的膜。

9.如权利要求8所述的防静电膜,其中,

所述基材膜层的波长550nm时的面内延迟量为80nm~180nm,并且,

所述基材膜层的慢轴相对于所述基材膜层的长度方向形成45°±5°的角度。

10.一种偏振片,具有权利要求1~9中任1项所述的防静电膜。

11.一种液晶显示装置,具有液晶单元和权利要求10所述的偏振片。

12.如权利要求11所述的液晶显示装置,其中,

所述液晶单元和所述防静电膜的所述防静电层被导通。

13.如权利要求11或12所述的液晶显示装置,其中,

所述液晶显示装置为IPS方式。

14.一种防静电膜的制造方法,包含:

在由包含含有脂环式结构的聚合物的热塑性树脂形成的基材膜层贴合掩蔽膜,从而得到多层膜的工序;

将所述多层膜收卷成辊状的工序;

将被收卷的辊状的所述多层膜放卷的工序;以及

在被放卷的所述多层膜的所述基材膜层的、与所述掩蔽膜的相反侧形成包含具有导电性的金属氧化物粒子的防静电层的工序,其中,

所述防静电层的表面电阻值为1.0×106Ω/□以上且1.0×1010Ω/□以下,

所述防静电层的表面的图像清晰度为90以上。

15.如权利要求14所述的防静电膜的制造方法,其中,

与所述基材膜层相接的所述掩蔽膜的面的算术平均粗糙度Ra和凹凸间的平均间隔Sm满足下述式(i)和式(ii),

Ra<0.08μm式(i)

Sm>0.6mm式(ii)。

16.如权利要求14或15所述的防静电膜的制造方法,其中,

在将所述多层膜收卷成辊状的工序中,在接触压力为0.05MPa以上且1.5MPa以下的条件下使橡胶辊与所述多层膜表面接触,在收卷张力为50N/m以上且250N/m以下的条件下以所述掩蔽膜成为外侧的方式进行收卷。

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