[发明专利]侧向发射的光波导和用于向光波导中引入微修饰的方法

权利要求书

1.一种光波导，包括：

-引导光波的芯部

-在所述光波导中的区域，其中，在所述光波导的所述区域中设置微修饰，

其中，所述微修饰的排布是有序的。

2.根据权利要求1所述的光波导，其特征在于，

所述微修饰排布在一个或多个截面上，

其中，所述截面基本上垂直于光波导轴线，而且

其中，在所述截面上的微修饰的排布通过选自包括微修饰的对称排布、微修饰在截面上的密度、微修饰的大小、微修饰相对于光波导轴线的间距、微修饰彼此之间的间距、微修饰的取向或微修饰的位置和分布或其大小和外部形状的其他参数的参数组中的一个或多个参数描述。

3.根据权利要求1或2所述的光波导，其特征在于，

在第一截面上的微修饰的排布在至少一个另外的截面上重复。

4.根据权利要求3所述的光波导，其特征在于，

第一截面上的微修饰的排布在其上重复的截面相对于所述第一截面以一个角度旋转。

5.根据权利要求3所述的光波导，其特征在于，

所述第一截面和所述微修饰的排布在其上重复的另外的截面之间的间距大于一个微修饰的范围。

6.根据权利要求3或4所述的光波导，其特征在于，

在所述第一截面和第一截面上的微修饰的排布在其上重复的截面之间存在至少一个具有微修饰的另外的截面，所述另外的截面所具有的微修饰具有不同于所述第一截面的排布。

7.根据权利要求2至6中任一项或多项所述的光波导，其特征在于，

在所述截面上的所述微修饰围绕所述光波导轴线旋转对称地设置。

8.根据权利要求2至6中任一项或多项所述的光波导，其特征在于，

所述微修饰设置在一个空心椎体上，其中，所述空心椎体的纵轴线位于所述光波导轴线上。

9.根据权利要求2至6中任一项或多项所述的光波导，其特征在于，

所述微修饰设置在多个空心椎体上，其中，所述空心椎体具有不同的直径，并且

其中，所述空心椎体的纵轴线位于所述光波导轴线上。

10.根据上述权利要求中任一项或多项所述的光波导，其特征在于，

其中设置有所述微修饰的光波导的区域在所述光波导轴线的方向上分为至少两个区段，在所述区段中引入有序的微修饰的不同的取向和实施形状。

11.一种用于向光波导中引入微修饰的方法，包括：

-将光波导固定在支架中，其中，所述光波导和/或所述支架以可移动的方式设置，

-使高能的射束在聚焦位置中聚焦，

其中，所述聚焦位置能够定位在所述光波导的内部，

其中，所述射束由发射源以脉冲的形式产生，

其中，用于使所述高能的射束聚焦的聚焦装置以可移动的方式设置，

-通过所述光波导使所述聚焦位置移动，

其特征在于，

所述聚焦位置在所述光波导的内部中的移动根据重复速率而选择。

12.根据权利要求11所述的用于向光波导中引入微修饰的方法，其特征在于，

所述光波导的移动以旋转运动的方式实施。

13.根据权利要求11或12所述的用于向光波导中引入微修饰的方法，其特征在于，

所述聚焦位置通过所述光波导连续地移动。

14.根据权利要求11或13中任一项或多项所述的用于向光波导中引入微修饰的方法，其特征在于，

通过所述光波导的所述聚焦位置的移动是旋转运动和平移运动的组合。

15.根据权利要求11或14中任一项或多项所述的用于向光波导中引入微修饰的方法，其特征在于，

所述聚焦位置在所述光波导中的定位通过重复速率进行修正，从而在所述光波导中产生微修饰的有序的排布。

16.根据权利要求15所述的用于向光波导中引入微修饰的方法，其特征在于，

在截面上的微修饰的排布通过选自包括微修饰的对称排布、微修饰在截面上的密度、微修饰的大小、微修饰相对于光波导轴线的间距、微修饰彼此之间的间距、微修饰的取向或微修饰的位置和分布或其大小和外部形状的其他参数的参数组中的一个或多个参数来描述。