[发明专利]用于自身免疫失调和其他适应症的靶向UVB光疗的系统和方法

权利要求书

1.一种用于治疗自身免疫失调的光疗系统，所述光疗系统包括：

辐射源，其配置为发射光并具有强度，其中由所述辐射源发射的所述光的至少75％具有带宽为298nm至307nm的目标波长范围；和

控制器，其可操作地连接到所述辐射源，并配置为确定光疗疗程的剂量，其中所述剂量等于所述辐射源的强度与所述辐射源的暴露时间的乘积，其中所述剂量的上限小于1个最小红斑剂量(MED)，并且其中所述剂量的递送提供免疫反应以治疗所述自身免疫失调。

2.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源配置为滤除所述目标波长范围之外的大部分UV能量。

3.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源配置为将患者皮肤的至少30％暴露于由所述辐射源发射的光。

4.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源为低能量辐射源，并配置为位于治疗区域的3cm范围内。

5.根据权利要求4所述的光疗系统，其中所述辐射源包括LED阵列。

6.根据权利要求1所述的光疗装置，还包括：

可穿戴基材；和

其中所述辐射源包括布置在所述可穿戴基材上且配置为在治疗区域内发射光的多个LED。

7.根据权利要求6所述的光疗装置，其中所述LED配置为发射穿过治疗区域的基本均匀的UV辐射。

8.根据权利要求6所述的光疗装置，还包括在所述可穿戴基材上的传感器，其中所述传感器配置为确定所述辐射源对患者皮肤的接近度。

9.根据权利要求1所述的光疗装置，还包括配置为测量皮肤吸收、颜色和/或反射的传感器，其中所述控制器配置为基于由所述传感器测量的皮肤吸收、颜色和/或反射来选择剂量。

10.根据权利要求1所述的光疗装置，其中所述辐射源包括多个高能量辐射源，所述多个高能量辐射源配置为向所述治疗区域发射强度基本相同的光。

11.根据权利要求10所述的光疗装置，其中所述多个高能量辐射源配置为与所述治疗区域间隔大约10-200cm，并且其中在所述高能量辐射源与所述治疗区域之间的距离变化小于50cm。

12.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源包括窄带UVB源或宽带UVB源中的至少一个。

13.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源的剂量配置为产生促肾上腺皮质激素(ACTH)、黑素细胞刺激素(MSH)或β内啡肽(BE)中的至少一种。

14.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源的剂量配置为产生顺式尿刊酸或DNA嘧啶二聚体中的至少一种。

15.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源的强度为红斑加权辐照度，其等于由所述辐射源发射的光的每个波长的绝对测量强度与红斑参考作用光谱加权因子乘积的总和。

16.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源包括：

UV辐射源，其配置为发射能量；

位于所述UV辐射源前方的滤光器，其配置为去除所述目标波长范围之外的能量；和

位于滤光器前方的透镜，其配置为以基本均匀的方式漫射能量。

17.根据权利要求1所述的光疗系统，其中所述辐射源包括：

UV辐射源；和

位于所述UV辐射源前方的透镜，其中所述透镜包括面向所述UV辐射源的过滤部分，所述过滤部分配置为去除所述目标波长范围之外的光；以及透镜元件，所述透镜元件通过所述过滤部分与所述UV辐射源间隔开，且配置为以基本均匀的方式漫射滤光。

18.一种用于治疗自身免疫失调的光疗系统，所述光疗系统包括：

辐射源，其配置为发射光并具有强度，其中由所述辐射源发射的所述光的至少75％具有带宽为298nm至307nm的目标波长范围；和

控制器，其可操作地连接到所述辐射源且配置为确定光疗疗程的剂量，其中所述剂量等于所述辐射源的强度与所述辐射源的暴露时间的乘积，其中所述剂量的上限小于10个标准红斑剂量(SED)，并且其中所述剂量的递送提供免疫反应以治疗自身免疫失调。