[发明专利]用于可变阻力气道正压设备管路补偿的气压传感器在审
申请号: | 201680038205.6 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN107847699A | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | B·I·谢利 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61M16/00 | 分类号: | A61M16/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 王英,刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 可变 阻力 正压 设备 管路 补偿 气压 传感器 | ||
1.一种用于向患者(10)的气道递送呼吸气体流的压力支持系统(2),包括:
压力生成系统(6、16),其被构造为生成所述呼吸气体流;
患者管路,其包括患者接口设备(14),所述患者管路被耦合到所述压力生成系统并且被构造为运送所述呼吸气体流;
气压传感器(29),其在所述患者管路的气体流动路径内被耦合到所述患者管路,其中,所述气压传感器被构造为生成气压信号,所述气压信号指示所述气体流动路径内靠近所述患者处的气压;以及
控制系统(22),其被构造为至少基于所述气压信号以补偿由于所述患者管路的气动阻力导致的跨所述患者管路的压降的方式来控制由所述压力生成系统生成的出口压力。
2.根据权利要求1所述的压力支持系统,其中,所述压力生成系统被提供在压力生成基座单元(4)内,其中,所述压力生成基座单元包括流量传感器(20)和基座单元压力传感器(17),所述流量传感器被构造为生成指示由所述压力生成系统生成的总流率的流量信号(Q测量),所述基座单元压力传感器被构造为生成基座单元压力信号,并且其中,所述控制系统被构造为基于所述气压信号、所述流量信号和所述基座单元压力信号以补偿由于所述患者管路的所述气动阻力导致的跨所述患者管路的所述压降的方式来控制所述出口压力。
3.根据权利要求2所述的压力支持系统,其中,所述基座单元压力传感器是表压传感器,并且其中,所述基座单元压力信号是指示由所述压力生成系统生成的表压的表压信号。
4.根据权利要求3所述的压力支持系统,其中,所述流量信号为Q测量,所述气压信号为P气压,并且所述表压信号为P表,其中,所述控制系统被构造为根据Q测量、P气压和P表来确定所述出口压力(Poutlet)。
5.根据权利要求4所述的压力支持系统,其中,所述控制系统被构造为根据以下公式来确定所述出口压力(Poutlet):Poutlet=Pptset+Pdropcalc,其中,Pptset是期望的患者压力设定点,其中,Pdropcalc=A*Q测量2+B*Q测量,并且其中,A和B是使用多个收集和存储的Q测量、P气压和P表的值而导出的系数。
6.根据权利要求5所述的压力支持系统,其中,Pdiff是P表与P气压之间的差,其中,A和B是通过以下操作来导出的:使用所述收集和存储的Q测量、P气压和P表的值来生成Pdiff-Q测量曲线,并且根据所述Pdiff-Q测量曲线的曲线拟合来导出A和B。
7.根据权利要求6所述的压力支持系统,其中,所述曲线拟合是最小二乘估计曲线拟合。
8.根据权利要求6所述的压力支持系统,其中,所述控制器被构造为周期性地更新A和B。
9.根据权利要求1所述的压力支持系统,其中,所述气压传感被直接连接到所述患者接口设备。
10.根据权利要求1所述的压力支持系统,其中,所述压力生成系统被提供在压力生成基座单元(4)内,所述压力支持系统还包括被提供在所述压力生成基座单元内并且被提供在所述压力生成基座单元的气体流动路径内的第二气压传感器(29'),其中,所述第二气压传感器被构造为生成第二气压信号,所述第二气压信号指示所述压力生成基座单元内的气压,并且其中,所述控制系统被构造为至少基于所述气压信号和所述第二气压信号以补偿由于所述患者管路的气动阻力导致的跨所述患者管路的压降的方式来控制由所述压力生成系统生成的所述出口压力。
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