[发明专利]具有降低的积聚的X射线设备有效
申请号: | 201680038827.9 | 申请日: | 2016-06-23 |
公开(公告)号: | CN107809953B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | C·赫尔曼 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/03;A61B6/06;G01T1/17;G01T1/24;H01L27/146;H01L31/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 降低 积聚 射线 设备 | ||
1.一种用于采集要被成像的对象(41)的图像数据的X射线设备(1),所述设备(1)包括X射线源(2)和辐射探测器(3),
所述辐射探测器(3)包括用于探测辐射的探测器元件(21),每个探测器元件(21)包括能够调整的敏感体积,其中,进入所述敏感体积的X射线光子产生用于生成所述图像数据的电信号,
其中,所述设备(1)还包括控制单元(9),所述控制单元被配置为根据要被成像的所述对象(41)的几何结构来控制所述探测器元件(21)中的至少一个的所述敏感体积,使得被暴露在高光子通量下的探测器元件具有与被暴露在较低光子通量下的探测器元件的所述敏感体积相比减小的敏感体积。
2.根据权利要求1所述的X射线设备(1),其中,所述控制单元(9)被配置为当所述探测器元件(21)的至少部分位于根据所述对象(41)的所述几何结构由所述对象(41)创建的阴影区域(42)之外时减小所述探测器元件(21)的所述敏感体积。
3.根据权利要求1所述的X射线设备(1),其中,所述控制单元(9)被配置为当所述探测器元件(21)的至少部分收集已经贯穿与所述对象(41)的另一区域相比具有较小X射线衰减系数的所述对象(41)的区域的辐射时,减小所述探测器元件(21)的所述敏感体积。
4.根据权利要求1所述的X射线设备(1),所述X射线源(2)和所述辐射探测器(3)被配置为在对所述对象的X射线扫描期间围绕所述对象旋转。
5.根据权利要求4所述的X射线设备(1),其中,控制配置文件指示针对所述X射线扫描期间所述辐射探测器(3)的若干位置的用于控制所述探测器元件(21)的所述敏感体积的控制参数的值,并且其中,所述控制单元(9)根据所述控制配置文件中指示的所述控制参数的所述值来控制所述探测器元件(21)的所述敏感体积。
6.根据权利要求5所述的X射线设备(1),其中,所述控制单元(9)被耦合至用于存储所述控制配置文件的存储器,并且其中,所述控制单元(9)结合所述X射线扫描的执行来读取所述控制配置文件。
7.根据权利要求5所述的X射线设备(1),其中,所述控制单元(9)被配置为基于在另一X射线扫描中采集的所述对象(41)的一幅或多幅图像来生成所述控制配置文件。
8.根据权利要求5所述的X射线设备(1),其中,所述控制单元(9)被配置为基于在侦察扫描中采集的所述对象(41)的一幅或多幅图像来生成所述控制配置文件。
9.根据权利要求5所述的X射线设备(1),其中,所述控制单元(9)被配置为根据所述对象(41)的估计的几何结构来生成所述控制配置文件。
10.根据权利要求9所述的X射线设备(1),还包括测距仪设备(11),所述测距仪设备被配置为扫描所述对象(41),其中,所述控制单元(9)被配置为基于使用所述测距仪设备(11)确定的所述对象(41)的尺寸来估计所述对象(41)的所述几何结构。
11.根据权利要求5所述的X射线设备(1),其中,针对多个类别的所述对象(41)的几何结构的预定控制配置文件被存储到所述控制单元(9)中,并且其中,所述控制单元(9)被配置为基于关于要被成像的所述对象(41)的所述类别的信息来选择所述控制配置文件。
12.根据权利要求1所述的X射线设备(1),其中,探测器元件(21)包括响应于入射光子而生成电荷载子的转换器元件(31),所述转换器元件(31)被布置在阴极电极组件(32)与阳极电极组件(33)之间,所述阳极电极组件(33)包括至少一个阳极电极(34)和至少一个转向电极(35),所述至少一个阳极电极用于收集电荷载子以产生用于生成所述图像数据的电信号,所述至少一个转向电极能够被保持到与所述阳极电极(34)相同或者更负的电势上。
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