[发明专利]与粒状多孔体接触而进行反应的反应方法有效
申请号: | 201680039129.0 | 申请日: | 2016-06-29 |
公开(公告)号: | CN107708851B | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 宫本利一;白鸿志 | 申请(专利权)人: | 株式会社SNG |
主分类号: | B01J8/02 | 分类号: | B01J8/02;B01J8/16;B01J20/28;B01J45/00;C01B33/159;G01N30/88;G01N30/96 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王铭浩 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒状 多孔 接触 进行 反应 方法 | ||
1.一种反应方法,其是使包含反应对象的液体与粒状多孔体接触而进行反应的反应方法,其特征在于,
所述反应对象为金属离子或分子量2000以下的范围的低分子化合物,
使用使所述液体在填充所述粒状多孔体而成的柱中流通从而在所述粒状多孔体内扩散的柱流通法、或者
使用在所述液体中分散添加所述粒状多孔体并使所述液体和所述粒状多孔体振荡从而使所述液体在所述粒状多孔体内扩散的振荡法,
所述粒状多孔体具有三维连续网状结构的包含无机化合物的骨架体,并且具有2级的多孔结构,所述2级的多孔结构包含:
在所述骨架体的间隙形成的贯通孔、和
从所述骨架体的表面向内部延伸的分散形成于所述表面的细孔,
在所述反应对象为金属离子的情况下,所述细孔的孔径分布的最可几孔径处于2nm以上且20nm以下的范围内,
在所述反应对象为所述低分子化合物的情况下,所述细孔的孔径分布的最可几孔径处于5nm以上且50nm以下的范围内,
所述贯通孔的孔径分布的最可几孔径为所述细孔的最可几孔径的5倍以上并且处于0.1μm以上且50μm以下的范围内,
所述粒状多孔体的粒径为所述贯通孔的最可几孔径的2倍以上,并且处于20μm以上且依赖于所述液体与所述粒状多孔体的接触时间T而确定的上限值D以下的范围内,
对于所述上限值D而言,
在使所述液体中的所述反应对象的浓度维持恒定并持续地流通的非循环式的所述柱流通法中,
根据D=0.556×LN(T)+0.166对所述上限值D赋值,
其中,函数LN为自然对数;
在使反应后的所述液体返回所述柱而持续地循环的循环式的所述柱流通法和所述振荡法中,
根据D=0.0315×T+0.470对所述上限值D赋值,
所述接触时间T的单位为秒,所述上限值D的单位为mm,
对于所述接触时间T而言,
在非循环式的所述柱流通法中,对所述接触时间T赋予所述粒状多孔体的容积除以所述液体的流通速度而得的值;
在循环式的所述柱流通法中,对所述接触时间T赋予使所述液体的流通时间乘以使所述粒状多孔体的容积除以所述液体的容积而得的容积比从而得到的值;
在所述振荡法中,对所述接触时间T赋予使在所述液体中添加所述粒状多孔体后的经过时间乘以所述容积比而得的值,
所述容积的单位为m3,所述流通速度的单位为m3/秒,所述流通时间的单位为秒,所述经过时间的单位为秒。
2.如权利要求1所述的反应方法,其特征在于,
所述反应对象为金属离子,
在所述粒状多孔体的表面化学修饰有与所述金属离子具有亲和性的官能团。
3.如权利要求2所述的反应方法,其特征在于,
所述金属离子与所述官能团发生络合反应从而吸附于所述粒状多孔体的表面。
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