[发明专利]提供有具有热性质的堆叠体的材料

权利要求书

1.包含用薄层堆叠体涂覆的透明基材的材料，该薄层堆叠体从基材开始依次包含三个银基金属功能层和四个电介质涂层的交替，该银基金属功能层从基材开始被取名为第一、第二和第三功能层，金属功能层的厚度从基材开始随着远离该基材而增大，电介质涂层从基材开始被取名为M1、M2、M3和M4，每个电介质涂层包含至少一个电介质层，使得每个金属功能层被设置于两个电介质涂层之间，其特征在于：

- 电介质涂层M1、M2、M3和M4各自具有光学厚度Eo1、Eo2、Eo3和Eo4，

- 每个电介质涂层包含至少一个高折射率电介质层，该电介质层的折射率为至少2.15并且其光学厚度大于20nm，

- 同一电介质涂层的所有高折射率电介质层的光学厚度的总和根据所涉及的电介质涂层被取名为Eohi1、Eohi2、Eohi3或Eohi4，

- 每个电介质涂层满足以下关系：

Eohi1/Eo1 0.30，

Eohi2/Eo2 0.30，

Eohi3/Eo3 0.30，

Eohi4/Eo4 0.30；

所述三个金属功能层满足以下特征：

- 第二金属层的厚度与第一金属功能层的厚度之比在1.20-2.00之间，包含这些端值，和

- 第三金属层的厚度与第二金属功能层的厚度之比在1.20-1.80之间，包含这些端值。

2.根据权利要求1所述的材料，其特征在于，所述三个金属功能层满足以下特征：

-第二金属层的厚度与第一金属功能层的厚度之比在1.20-1.80之间，包含这些端值，和/或

-第三金属层的厚度与第二金属功能层的厚度之比在1.2-1.60之间，包含这些端值。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，所述堆叠体还包含至少一个与功能层接触的阻挡层，所述阻挡层选自一种或多种选自钛、镍、铬和铌的元素的金属层、金属氮化物层、金属氧化物层和金属氧氮化物层。

4.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，所述电介质涂层M1，M2，M3和M4各自具有满足以下关系的光学厚度Eo1、Eo2、Eo3和Eo4：Eo4Eo1Eo2Eo3。

5.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，所述高折射率电介质层具有小于或等于2.35的折射率。

6.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，每个电介质涂层满足以下关系：

Eohi1/Eo1 0.80，

Eohi2/Eo2 0.80，

Eohi3/Eo3 0.80，

Eohi4/Eo4 0.80。

7.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，至少两个电介质涂层包含基于氮化硅锆的高折射率电介质层。

8.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，每个电介质涂层包含基于氮化硅锆的高折射率电介质层。

9.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，所述电介质涂层满足以下特征：

-第一电介质涂层M1的光学厚度为60-140nm，

-第二电介质涂层M2的光学厚度为120-180nm，

-第三电介质涂层M3的光学厚度为140-200nm，

-第四电介质涂层M4的光学厚度为50-120nm。

10.根据权利要求1-2中任一项所述的材料，其特征在于，每个电介质涂层还包含至少一个电介质层，所述电介质层的折射率小于2.15。