[发明专利]用于处理表面的设备有效

专利信息
申请号: 201680040198.3 申请日: 2016-07-04
公开(公告)号: CN107835653B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: L.希伦;M.勃兰特 申请(专利权)人: 德国福维克控股公司
主分类号: A47L9/28 分类号: A47L9/28;A47L11/40;G01N21/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 李萌;侯宇
地址: 德国伍*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 处理 表面 设备
【权利要求书】:

1.一种用于处理表面(21)的设备(1),所述设备(1)具有用于识别所述表面(21)的类型的探测装置(2),所述探测装置(2)具有用于利用光照射所述表面(21)的光源和用于探测被所述表面(21)反射的光的传感器(7),其特征在于,所述传感器(7)配有形成多个子容积(13、14、15、16)的三维的遮光座(12),其中,每个子容积(13、14、15、16)分别配属于所述传感器(7)的不同的传感器局部面(8、9、10、11),并且其中,相邻的传感器局部面(8、9、10、11)借助所述遮光座(12)在光学上彼此隔开,由此防止光从第一子容积(13)中投射至第二子容积(14)中。

2.按照权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述遮光座(12)的每个子容积(13、14、15、16)配有自有的光源(17、18、19、20)。

3.按照权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述遮光座(12)配有共同的光源,其中,每个子容积(13、14、15、16)配有光源的自有的光输出口元件。

4.按照前述权利要求之一所述的设备(1),其特征在于,所述子容积(13、14、15、16)内部的光具有用于照射所述表面(21)的确定的照明参数,其中,至少两个子容积(13、14、15、16)内部的照明参数彼此不同。

5.按照权利要求4所述的设备(1),其特征在于,所述照明参数是以下参数中的至少一个参数,即光的与角度相关的辐射强度、光在被照射表面(21)上的入射角、所述光源和所述传感器(7)之间的角度、光输出口区域和所述传感器(7)之间的角度、所述光源与被照射表面(21)的距离、光输出口区域与被照射表面(21)的距离、光的偏振状态、光的光束的光线的平行性或不平行性。

6.按照权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述传感器(7)配有评估装置,所述评估装置设置用于,对借助所述传感器局部面(8、9、10、11)接收到的光在确定的表面参数方面进行评估。

7.按照权利要求6所述的设备(1),其特征在于,至少两个传感器局部面(8、9、10、11)的被评估的表面参数彼此不同。

8.按照权利要求6或7所述的设备(1),其特征在于,所述评估装置被设置用于,使至少两个传感器局部面(8、9、10、11)的表面参数逻辑上相互关联,并且与已知表面(21)的参考数据相比较,以便确定所述表面(21)的类型。

9.按照权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述传感器(7)是摄像芯片。

10.按照权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述传感器(7)是CCD传感器或CMOS传感器。

11.按照权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述设备(1)设计为清洁机器人。

12.按照权利要求3所述的设备(1),其特征在于,所述光输出口元件是光纤。

13.按照权利要求6所述的设备(1),其特征在于,所述表面参数是所述表面(21)的光泽度、颜色和/或纹理。

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