[发明专利]光刻设备、投影系统、最终透镜元件、液体控制构件及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

投影系统，被配置为将图案化的辐射束通过所述投影系统投影到衬底的目标部分上；以及

液体限制结构，被配置为将浸没液体限制在所述投影系统与所述衬底之间的空间中，

所述投影系统包括：

出射表面，通过所述出射表面来投影所述图案化的辐射束；

以及

面向所述液体限制结构的另一表面，

其中：

所述另一表面相对于所述浸没液体具有第一静态后退接触角；

所述出射表面相对于所述浸没液体具有第二静态后退接触角；并且

所述第一静态后退接触角：

大于所述第二静态后退接触角；并且

小于65度。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，

所述液体限制结构被配置为使得在使用时，所述衬底相对于所述投影系统的移动引起所述浸没液体的弯液面与所述另一表面之间的接触线的位置的波动。

3.一种光刻设备，包括：

投影系统，被配置为将图案化的辐射束通过所述投影系统投影到衬底的目标部分上；以及

液体限制结构，被配置为将浸没液体限制在所述投影系统与所述衬底之间的空间中，

所述投影系统包括：

出射表面，通过所述出射表面来投影所述图案化的辐射束；

以及

面向所述液体限制结构的另一表面，

其中：

所述液体限制结构被配置为使得在使用时，所述衬底相对于所述投影系统的移动引起所述浸没液体的弯液面与所述另一表面之间的接触线的位置的波动；并且

所述另一表面相对于所述浸没液体具有小于90度的静态后退接触角。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述另一表面相对于所述浸没液体具有小于65度的静态后退接触角。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述另一表面相对于所述浸没液体具有大于30度的静态后退接触角。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述另一表面包括相对于所述出射表面倾斜一定角度的倾斜表面。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述另一表面包括平行于所述出射表面的平面表面。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述另一表面设置在位于所述投影系统的最终透镜元件和所述液体限制结构之间的通路形成器上，所述通路形成器限定所述通路形成器与所述最终透镜元件之间的通路。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述另一表面由液体控制构件提供，所述液体控制构件被附接到所述投影系统的一部分并与所述投影系统的所述一部分的形状共形。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中：

所述液体限制结构包括面向所述投影系统的液体控制表面；并且

所述液体控制表面的一部分具有小于90度的静态后退接触角。

11.一种用于与浸没式光刻设备一起使用的投影系统，其中：

所述投影系统被配置为将图案化的辐射束通过所述投影系统投影到衬底的目标部分上；

所述投影系统包括：

出射表面，通过所述出射表面来投影所述图案化的辐射束；

以及

面向所述液体限制结构的另一表面；

所述另一表面相对于所述浸没液体具有第一静态后退接触角；

所述出射表面相对于所述浸没液体具有第二静态后退接触角；

并且

所述第一静态后退接触角：

大于所述第二静态后退接触角；并且

小于65度。