[发明专利]光学装置、图像显示装置和显示装置

权利要求书

1.一种光学装置，包括：

第一基板，包括第一表面、和面对所述第一表面的第二表面；

第二基板，包括第一表面、和面对所述第一表面的第二表面，所述第二基板的第一表面设置为面对所述第一基板的第一表面；

偏转单元，设置在所述第一基板的第一表面上；

密封构件，用于对所述第一基板的第一表面的外边缘部分和所述第二基板的第一表面的外边缘部分进行密封；和

吸湿构件，设置在由所述第一基板、所述第二基板以及所述密封构件包围的空间内。

2.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述吸湿构件设置在所述第二基板的第一表面上。

3.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述吸湿构件设置在除了所述第一基板的第一表面上的设置有所述偏转单元的区域以外的区域中。

4.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述偏转单元包含具有吸水性的材料。

5.根据权利要求1所述的光学装置，

其中在所述偏转单元的面对所述第二基板的表面上设置保护膜。

6.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述吸湿构件和所述保护膜包含相同的材料，并且所述吸湿构件的厚度大于所述保护膜的厚度。

7.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述偏转单元由第一偏转单元和第二偏转单元构成，

所述第一偏转单元使入射到所述第一基板上的光偏转，以使得入射到所述第一基板上的光在所述第一基板的内部被全反射，并且

所述第二偏转单元使通过全反射在所述第一基板的内部传播的光偏转，以使得通过全反射在所述第一基板的内部传播的光从所述第一基板射出。

8.根据权利要求7所述的光学装置，

其中所述吸湿构件设置在所述第二基板的第一表面上。

9.根据权利要求7所述的光学装置，

其中所述吸湿构件设置在除了所述第一基板的第一表面上的设置有所述第一偏转单元和所述第二偏转单元的区域以外的区域中。

10.根据权利要求7所述的光学装置，

其中在所述第二基板的第二表面的外侧设置遮光构件，以覆盖所述第一偏转单元。

11.根据权利要求7所述的光学装置，

其中所述吸湿构件设置在如下所述的区域中：

所述区域是所述遮光构件在所述第二基板上的正交投影图像内的区域，并且所述区域是

所述第二基板的第一表面上的区域，或者

所述第一基板的第一表面上的除了设置有所述第一偏转单元的区域以外的区域，或者

所述第二基板的第一表面上的区域以及所述第一基板的第一表面上的除了设置有所述第一偏转单元的区域。

12.根据权利要求7所述的光学装置，

其中所述第一偏转单元和所述第二偏转单元中的至少之一包含具有吸水性的材料。

13.根据权利要求12所述的光学装置，

其中所述第一偏转单元由包含树脂材料的全息衍射光栅膜构成，并且

所述第二偏转单元由包含树脂材料的全息衍射光栅膜构成。

14.根据权利要求7所述的光学装置，

其中在所述第一偏转单元的面对所述第二基板的表面、以及所述第二偏转单元的面对所述第二基板的表面上设置保护膜。

15.根据权利要求7所述的光学装置，

其中所述吸湿构件和所述保护膜包含相同的材料，并且所述吸湿构件的厚度大于所述保护膜的厚度。

16.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述吸湿构件的吸水率高于构成所述偏转单元的材料的吸水率。

17.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述吸湿构件包含聚乙烯醇。

18.根据权利要求1所述的光学装置，

其中所述吸湿构件包含选自由纳米多孔二氧化硅、分子筛、沸石、活性炭、活性氧化铝、硅藻土、蒙脱土和膨润土构成的组中的至少一种材料。