[发明专利]器械头清洁系统

权利要求书

1.一种设备，所述设备包括：

基座，所述基座具有基座顶部以及基座底部；

气流室，所述气流室布置在所述基座顶部中；

气流入口板，所述气流入口板以可移除的方式接合至所述基座顶部以覆盖所述气流室，所述气流入口板具有多个气流入口孔元件，所述多个气流入口孔元件限定气流入口开放区，所述气流入口开放区流体地联接至所述气流室；以及

气流出口元件，所述气流出口元件具有内表面，所述内表面限定了流体地联接至所述气流室的气流出口通道。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述气流室包括气流室侧壁，所述气流室侧壁连接在气流室底部与所述基座顶部之间，从而限定位于所述基座顶部中的气流室开口的外周。

3.根据权利要求2所述的设备，所述设备进一步包括布置在所述气流室的内部的一个或者多个气流围壁，所述一个或者多个气流围壁将所述气流室分成两个以上气流室隔间。

4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述多个气流孔元件在所述气流入口板中的定位能够提供使所述气流入口板底部与所述基座顶部接合的第一气流取向以及使所述气流入口板顶部与所述基座顶部接合的第二气流取向。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，当所述气流入口板底部接合所述基座顶部表面时，所述气流入口孔元件在处于所述第一气流取向时在所述气流入口板中的定位相应地对准所述两个以上气流室隔间。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，当所述气流入口板顶部接合所述基座顶部时，所述气流入口孔元件在处于所述第二气流取向时在所述气流入口板中的定位使所述气流入口孔中的至少一个气流入口孔与所述一个或者多个气流围壁中的至少一个气流围壁对准。

7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述气流入口孔元件包括以基本平行且间隔开的关系布置在所述气流入口板中的多个线性长形槽。

8.根据权利要求7所述的设备，所述设备进一步包括布置在所述气流入口板顶部或者所述气流入口板底部上的粗糙元件，所述粗糙元件的预选轮廓粗糙度小于约32Ra。

9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述预选轮廓粗糙度选自由以下各项组成的组中：约0Ra至约10Ra、约5Ra至约15Ra、约10Ra至约20Ra、约15Ra至约25Ra、约20Ra至约30Ra以及约25Ra至约小于32Ra。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述设备进一步包括布置在所述气流入口孔侧壁上的粗糙元件，所述粗糙元件的预选轮廓粗糙度在约32Ra与约250Ra之间。

11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述预选轮廓粗糙度选自由以下各项组成的组中：约32Ra至约60Ra、约45Ra至约75Ra、约60Ra至约90Ra、约75Ra至约105Ra、约90Ra至约120Ra、约105Ra至约135Ra、约120Ra至约150Ra、约135Ra至约165Ra、约150Ra至约180Ra、约165Ra至约195Ra、约180Ra至约210Ra、约195Ra至约225Ra、约210Ra至约240Ra以及约225Ra至约250Ra。

12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述气流入口孔元件具有连接气流入口板顶部与气流入口板底部的气流入口孔侧壁，所述气流入口孔侧壁相对于所述气流入口板顶部表面具有在约70度与约120度之间的角位置。

13.根据权利要求12所述的设备，其中，所述气流入口孔侧壁的所述角位置选自由以下各项组成的组中：约70度至约80度、约75度至约85度、约80度至约90度、约85度至约95度、约90度至约100度、约95度至约105度、约100度至约110度、约105度至约115度以及约110度至约120度。

14.根据权利要求13所述的设备，其中，一个或者多个紧固件将所述气流入口板固定至所述基座顶部。

15.根据权利要求14所述的设备，其中，所述一个或者多个紧固件包括围绕所述气流室开口的所述外周定位的一个或者多个磁性元件。