[发明专利]用于形成半导体图案的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包含：

5至60重量％的聚合物树脂、0.1至4重量％的以下化学式3表示的化合物、1至10重量％的交联剂、0.1至10重量％的光酸产生剂、0.01至5重量％的酸扩散抑制剂和余量的溶剂，其中，所述聚合物树脂是选自含有羟基的苯酚聚合物树脂以及甲酚聚合物树脂组成的群组中的至少一种，

(化学式3)

其中，在所述化学式3中，R为丙烯酰基。

2.根据权利要求1所述的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

所述化学式3表示的化合物是1,1,1-三(4-羟基苯基)乙烷取代丙烯酰氯进行反应而得到的化合物。

3.根据权利要求1所述的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

所述苯酚聚合物树脂是从选自由以下的群组中的至少一种的单体获取：4-羟基-3-甲基苯甲酸(4-Hydroxy-3-methyl benzoic acid)、4-羟基-2-甲基苯甲酸(4-Hydroxy-2-methyl benzoic acid)、5-羟基-2-甲基苯甲酸(5-Hydroxy-2-methyl benzoic acid)、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸(3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxy benzoic acid)、4-羟基-3,5-二甲基苯甲酸(4-Hydroxy-3,5-dimethyl benzoic acid)、4-羟基间苯二甲酸(4-Hydroxyisophthalic acid)、2,4,6-三羟基甲苯(2,4,6-Trihydroxy toluene)、2,4,6-三羟基苯甲酸一水合物(2,4,6-Trihydroxy benzoic acid monohydrate)、2,4,6-三羟基苯甲醛(2,4,6-Trihydroxy benzaldehyde)；

甲酚聚合物树脂是从选自由以下的群组中的至少一种的单体获取：邻甲酚(o-cresol)、对甲酚(p-cresol)、间甲酚(m-cresol)、环氧邻甲酚(Epoxy o-cresol)、环氧对甲酚(Epoxy p-cresol)、环氧间甲酚(Epoxy m-cresol)。

4.根据权利要求1所述的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

所述交联剂选自以下的群组中的至少一种：三(2,3-环氧丙基)异氰脲酸酯(Tris(2,3-epoxypropyl)isocyanurate)、三羟甲基甲烷三缩水甘油醚(Trimethylolmethanetriglycidylether)、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚(Trimethylolpropanetriglycidylether)、六羟甲基三聚氰胺(Hexamethylolmelamine)、三羟甲基三缩水甘油醚(Trimethylolethanetriglycidylether)、六甲氧甲基三聚氰胺(Hexamethoxymethylmelamine)、六甲氧乙基三聚氰胺(Hexamethoxymethylmelamine)、四羟甲基2,4-二氨基-1,3,5-三嗪(Tetramethylol 2,4-diamino-1,3,5-triazine)、四甲氧基2,4-二氨基-1,3,5-三嗪(Tetramethoxymethyl-2,4-diamino-1,3,5-triazine)、四羟甲基甘脲(Tetramethylolglycoluril)、四甲氧基甲基甘脲(Tetramethoxymethylglycoluril)、四甲氧基乙基甘脲(Tetramethoxyethylglycoluril)、四甲基脲(Tetramethylolurea)、四甲氧基甲基脲(Tetramethoxymethylurea)、四甲氧基乙基脲(Tetramethoxyethylurea)以及四甲氧基乙基2,4-二氨基-1,3,5-三嗪(Tetramethoxyethyl-2,4-diamino-1,3,5-troazine)。