[发明专利]导电性基板、导电性基板的制造方法有效
| 申请号： | 201680043312.8 | 申请日： | 2016-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107850965B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 须田贵广 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;钟海胜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导电性 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种导电性基板，其包括：
绝缘性基材；
金属层，其形成在所述绝缘性基材的至少一个面上；
有机物层，其形成在所述金属层上，并含有含氮有机物；以及
黑化层，其形成在所述有机物层上，
其中，所述有机物层含有0.2μg/cm2以上的所述含氮有机物。
2.根据权利要求1所述的导电性基板，其中，所述含氮有机物含有1,2,3-苯并三唑或其衍生物。
3.根据权利要求1或2所述的导电性基板，其中，所述导电性基板的波长400nm以上700nm以下的光的平均反射率为20％以下。
4.一种导电性基板的制造方法，其包括：
金属层形成步骤，其在绝缘性基材的至少一个面上形成金属层；
有机物层形成步骤，其在所述金属层上形成含有含氮有机物的有机物层；以及
黑化层形成步骤，其在所述有机物层上形成黑化层，
其中，在所述有机物层形成步骤中，以所述有机物层含有0.2μg/cm2以上的所述含氮有机物的方式形成所述有机物层。
5.根据权利要求4所述的导电性基板的制造方法，其中，所述含氮有机物含有1,2,3-苯并三唑或其衍生物。
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