[发明专利]用于与表面处理设备连接的基站、由表面处理设备和基站组成的系统和运行基站的方法有效
申请号: | 201680045115.X | 申请日: | 2016-08-01 |
公开(公告)号: | CN107851354B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | F.迈耶 | 申请(专利权)人: | 德国福维克控股公司 |
主分类号: | G08B17/103 | 分类号: | G08B17/103;G01S17/48 |
代理公司: | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 侯宇<国际申请>=PCT/EP2016/ |
地址: | 德国伍*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 设备 基站 | ||
1.一种基站(2),用于与表面处理设备(1)连接以便进行维护操作,其中,所述基站(2)具有至少一个基站光学元件(4)和评估装置(5),其特征在于,所述基站光学元件(4)为了与外设元件共同作用而设计为,使得从所述基站光学元件(4)发射的光借助所述外设元件被至少部分地反射到基站光学元件(4),其中,所述评估装置(5)设计为,在所述基站光学元件(4)和所述外设元件共同作用时,为了探测在所述基站光学元件(4)和外设元件之间烟雾(7)的存在,对于所述基站光学元件(4)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估,并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
2.根据权利要求1所述的基站(2),其特征在于,所述维护操作是清洁表面处理设备(1)和/或为表面处理设备(1)的蓄电池充电。
3.根据权利要求1所述的基站(2),其特征在于,设有多个基站光学元件。
4.根据权利要求1所述的基站(2),其特征在于,所述基站光学元件(4)包括二极管。
5.根据权利要求1所述的基站(2),其特征在于,所述基站光学元件(4)是光电二极管或摄像头芯片。
6.一种由表面处理设备(1)和基站(2)组成的系统,所述基站(2)用于与表面处理设备(1)连接以便进行维护操作,其中所述表面处理设备(1)具有至少一个设备光学元件(3),并且其中,所述基站(2)具有至少一个设计用于与所述设备光学元件(3)共同作用的基站光学元件(4),其特征在于,至少一个光学元件(3,4)配有评估装置(5),所述评估装置(5)设计为,在这些光学元件(3,4)共同作用时,为了探测所述设备光学元件(3)与所述基站光学元件(4)之间烟雾(7)的存在,对于由这些光学元件(3,4)之一接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估,并且在越过定义的极限值时触发警报信号,并且当所述表面处理设备(1)和所述基站(2)之间接触时这些光学元件(3,4)发生共同作用,其中,在实施烟雾传感器的功能的同时还能够实施基站(2)的维护操作。
7.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述表面处理设备(1)是清洁机器人。
8.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述维护操作是清洁表面处理设备(1)和/或为表面处理设备(1)的蓄电池充电。
9.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述设备光学元件(3)布置在所述表面处理设备(1)上,所述基站光学元件(4)布置在所述基站(2)上,使得所述设备光学元件(3)和所述基站光学元件(4)之间的距离(x)在共同作用期间约为1cm至20cm。
10.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述设备光学元件(3)或所述基站光学元件(4)是光源。
11.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)是传感器。
12.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)是光电二极管或摄像头芯片。
13.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述基站光学元件(4)或所述设备光学元件(3)是反光镜,用于至少部分地反射从设备光学元件或基站光学元件发射的光。
14.一种运行按照权利要求1至5中任一项所述的基站(2)的方法,其中,基站(2)的至少一个基站光学元件(4)与外设元件共同作用,其特征在于,所述基站光学元件(4)为了共同作用而与外设元件相隔一段距离(x),其中,所述基站光学元件(4)发射光,所述光被所述基站光学元件(4)接收,其中,为了探测所述基站光学元件(4)和所述外设元件之间烟雾(7)的存在,所述基站(2)的评估装置(5)对于借助所述基站光学元件(4)接收到的测量信号针对信号幅度的时间变化进行评估,并且在越过定义的极限值时触发警报信号。
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