[发明专利]利用基于目标的空中图像的变换的焦点计量和目标有效
申请号: | 201680045370.4 | 申请日: | 2016-08-04 |
公开(公告)号: | CN107924849B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | N·古特曼;Y·弗莱;V·莱温斯基;O·卡米斯开 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/027 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 基于 目标 空中 图像 变换 焦点 计量 | ||
1.一种焦点计量方法,其包括:
将两个以上焦点目标定位在每一晶片场中,
进行所述目标的焦点测量,
使用所述目标之间的变换将所述焦点测量变换为针对每一场的单组结果,所述变换基于所述目标的空中图像且在第一单元k的(fk,dk)与第二单元j的(fj,dj)之间,其中f代表焦点且d代表剂量,及
自所述单组结果导出焦点结果。
2.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括使用指定目标的空中图像参数自所述指定目标设计所述焦点目标。
3.根据权利要求2所述的方法,其进一步包括自初步测量凭经验确定所述指定目标。
4.根据权利要求2所述的方法,其中所述设计包括选择描述所述焦点目标的指定参数的参数值。
5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的方法,其至少部分由至少一个计算机处理器实行。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述变换被描绘为从j到k,(fj,dj)=Gk→j(fk,dk),其中所述变换通过等式dj=(Ak/Aj)dk和来表示,且其中A、B、α和表示掩模的性质。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述焦点结果包括强度I(f,d)的最佳焦点。
8.根据权利要求7所述的方法,其中强度的最佳焦点通过等式来表示,其中d0表示标称剂量,且其中A、B、α和表示掩模的性质。
9.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括排除不存在所述变换的点。
10.一种非暂时性计算机可读存储媒体,其存储由根据权利要求2到4中任一权利要求的方法设计的焦点目标的目标设计文件。
11.一种非暂时性计算机可读存储媒体,其存储计算机可读程序,所述计算机可读程序经配置以执行由根据权利要求2到4中任一权利要求的方法设计的焦点目标的计量测量。
12.一种计量焦点模块,其包括处理模块,所述处理模块经配置以将定位在晶片场中的多个目标的焦点测量使用所述目标之间的变换变换为针对所述场的单组结果,所述变换基于所述目标的空中图像且在第一单元k的(fk,dk)与第二单元j的(fj,dj)之间,其中f代表焦点且d代表剂量,其中所述计量焦点模块经配置以自所述单组结果导出焦点结果。
13.根据权利要求12所述的计量焦点模块,其中所述处理模块进一步经配置以根据指定目标使用所述指定目标的空中图像参数建议焦点目标设计,其中自由所述计量焦点模块实行的初步测量凭经验确定所述指定目标。
14.根据权利要求12所述的计量焦点模块,其中所述变换被描绘为从j到k,(fj,dj)=Gk→j(fk,dk),其中所述变换通过等式dj=(Ak/Aj)dk和来表示,且其中A、B、α和表示掩模的性质。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造