[发明专利]具有优化的粘合特性并且包括硅有机层的物品有效
申请号: | 201680045648.8 | 申请日: | 2016-08-05 |
公开(公告)号: | CN107923995B | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | S·基亚罗托 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司 |
主分类号: | G02B1/111 | 分类号: | G02B1/111;C23C14/06;C23C14/22;C03C17/34 |
代理公司: | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 张振军;刘娜 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 优化 粘合 特性 并且 包括 有机 物品 | ||
1.一种包括基材的物品,该基材具有至少一个涂覆有干涉涂层的主表面,该干涉涂层从该基材开始按顺序包括:
-通过至少一种有机硅化合物A的由离子源辅助的真空沉积获得的层A,所述层A具有低于或等于1.65的折射率,以及与该层A直接接触的以下层,
-通过至少一种金属氧化物和至少一种有机硅化合物B的由离子源辅助的真空沉积获得的B层,所述层B具有高于1.65的折射率并且含有至少一种具有高于或等于1.8的折射率的金属氧化物,和
a)相对于层A的重量,所述层A含有按重量计大于70%的有机硅化合物A,或
b)所述层A不由无机前体化合物形成,
-或包含氧化硅并且具有低于或等于15nm厚度的层C,与层E直接接触,所述层E包含至少一种具有高于或等于1.8的折射率的金属氧化物,且层E不由有机前体化合物形成。
2.如权利要求1所述的物品,其中该由离子源辅助的沉积是离子轰击。
3.如权利要求1或2所述的物品,其中该化合物A包含至少一个具有以下式的二价基团:
其中R’1至R’4独立地表示烷基、乙烯基、芳基或羟基或可水解基团,或者其特征在于,该化合物A对应于以下式:
其中R’5、R’6、R’7和R’8独立地表示羟基或可水解基团。
4.如权利要求1或2所述的物品,其中该化合物A选自八甲基环四硅氧烷、十甲基四硅氧烷、2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、六甲基二硅氧烷、十甲基环五硅氧烷和十二甲基五硅氧烷。
5.如权利要求1或2所述的物品,其中所述层A不由无机前体化合物形成。
6.如权利要求1或2所述的物品,其中该层A具有范围从20至500nm的厚度。
7.如权利要求1或2所述的物品,其中该物品具有沉积在该层A上并与其直接接触的层B,该层B的化合物B包含至少一个具有以下式的二价基团:
其中R’1至R’4独立地表示烷基、乙烯基、芳基或羟基或可水解基团,或者其中该化合物B对应于以下式:
其中R’5、R’6、R’7和R’8独立地表示羟基或可水解基团。
8.如权利要求1或2所述的物品,其中该物品具有沉积在该层A上并与其直接接触的层B,该层B的具有高于或等于1.8的折射率的金属氧化物是氧化锆或氧化铪。
9.如权利要求1或2所述的物品,其中该物品具有与所述层A直接接触的所述层B和沉积在该层B上并与其直接接触的包含至少一种具有高于或等于1.8的折射率的金属氧化物的层D。
10.如权利要求9所述的物品,其中所述层D不由有机前体化合物形成。
11.如权利要求1或2所述的物品,其中该物品具有沉积在该层A上并与其直接接触的层C,该层C含有相对于该层C的总重量至少50wt%的二氧化硅。
12.如权利要求1或2所述的物品,其中该物品具有沉积在该层A上并与其直接接触的具有在从2至10nm范围内的厚度的层C。
13.如权利要求1或2所述的物品,其中该干涉涂层是减反射涂层。
14.如权利要求1或2所述的物品,其进一步定义为光学镜片。
15.如权利要求1或2所述的物品,其进一步定义为眼科镜片。
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