[发明专利]触点构件、滑动触点、电气设备、及触点构件的制造方法

权利要求书

1.一种触点构件，在该触点构件的表面形成有表面层，所述表面层包括由导体构成的母材和分散在所述母材中的分散粒子，所述触点构件的特征在于，

所述分散粒子具有基材粒子、以及形成于所述基材粒子的外表面的覆盖层，该基材粒子是金属氧化物；

所述表面层是镀覆层，

所述覆盖层在90℃时pH为3～11的溶液中的溶解度小于3000ppm。

2.如权利要求1所述的触点构件，其特征在于，

所述基材粒子是从由氧化锌、氧化锡、氧化铟以及氧化铜构成的组中选出的至少一种金属氧化物。

3.如权利要求1或2所述的触点构件，其特征在于，

所述覆盖层是从由二氧化硅、氧化铝以及镍构成的组中选出的至少一种。

4.一种滑动触点，具备权利要求1～3中任一项所述的触点构件，其特征在于，

具备固定触点和可动触点，该可动触点能够在与所述固定触点接触和与所述固定触点非接触之间切换，

所述可动触点能够在与所述固定触点接触时相对于所述固定触点滑动，

所述固定触点以及所述可动触点中的至少一方是所述触点构件。

5.一种电气设备，能够在通电和非通电之间切换，其特征在于，

具备权利要求1～3中任一项所述的触点构件或权利要求4所述的滑动触点。

6.一种触点构件的制造方法，在该触点构件的表面形成有表面层，所述表面层包括由导体构成的母材和分散在所述母材中的分散粒子，

所述分散粒子具有基材粒子以及形成于所述基材粒子的外表面的覆盖层，该基材粒子是金属氧化物；

所述表面层是镀覆层，

所述覆盖层在90℃时pH为3～11的溶液中的溶解度小于3000ppm，

所述触点构件的制造方法的特征在于，包括在触点构件的表面形成表面层的工序，形成所述表面层的工序通过镀覆进行。