[发明专利]用于晶片边缘检验及复检的方法及系统

权利要求书

1.一种电子光学系统，其包括：

电子束源，其经配置以产生一或多个电子束；

样本载台，其经配置以固定样本；

电子光学柱，其包含经配置以将所述一或多个电子束的至少一部分引导到所述样本的边缘部分上的一组电子光学元件；

样本位置参考装置，其围绕所述样本而安置；

保护环装置，其安置于所述样本的所述边缘与所述样本位置参考装置之间以补偿一或多个边际场，其中所述保护环装置的一或多个特性是可调整的，其中所述一或多个可调整特性包括所述保护环装置的高度；及

检测器组合件，其经配置以检测从所述样本的表面发出的电子。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述保护环装置包括：

导电环结构。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述保护环装置包括：

环结构，其涂覆有导电材料。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述保护环装置的所述高度沿着垂直于所述样本的所述表面的方向是可调整的。

5.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括：

致动器，其以机械方式耦合到所述保护环装置；及

控制器，其以通信方式耦合到所述致动器，其中所述控制器经配置以引导所述致动器来调整所述保护环装置的所述高度。

6.根据权利要求5所述的系统，其中对所述保护环装置的所述高度的所述调整导致所述电子光学系统中的所述一或多个边际场的重新分布或减少中的至少一者。

7.根据权利要求6所述的系统，其中对所述保护环装置的所述高度的所述调整导致所述样本处的所述一或多个电子束的失真的减少。

8.根据权利要求6所述的系统，其中对所述保护环装置的所述高度的所述调整导致所述一或多个电子束的轴向像散的减少。

9.根据权利要求6所述的系统，其中对所述保护环装置的所述高度的所述调整导致所述一或多个电子束的离轴模糊的减少。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述保护环装置的所述一或多个可调整特性包括：

所述保护环装置的电压。

11.根据权利要求10所述的系统，其进一步包括：

电压控制电路，其电耦合到所述保护环装置；及

控制器，其以通信方式耦合到所述电压控制电路，其中所述控制器经配置以引导所述电压控制电路来调整所述保护环装置的所述电压。

12.根据权利要求11所述的系统，其中对所述保护环装置的所述电压的所述调整导致所述电子光学系统中的所述一或多个边际场的重新分布或减少中的至少一者。

13.根据权利要求12所述的系统，其中对所述保护环装置的所述电压的所述调整导致所述一或多个电子束的离轴模糊的减少。

14.根据权利要求12所述的系统，其中对所述保护环装置的所述电压的所述调整导致所述样本处的所述一或多个电子束的失真的减少。

15.根据权利要求12所述的系统，其中对所述保护环装置的所述电压的所述调整导致所述一或多个电子束的轴向像散的减少。

16.根据权利要求10所述的系统，其中所述保护环装置的所述高度及所述保护环装置的所述电压同时被调整。

17.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本位置参考装置包括：

一或多个镜像环板。