[发明专利]涂层

说明书

本发明公开了一种电子或电气装置或其元件，其包括在电子或电气装置或其元件表面上的交联聚合物涂层；其中，交联聚合物涂层通过使电子或电气装置或其元件在包含单体化合物和交联剂的等离子体中暴露足够时间，以允许在其表面上形成交联聚合物涂层而获得；其中，单体化合物具有下式：其中，R₁、R₂和R₄各自独立地选自氢、任意经取代的支链或直链C₁‑C₆烷基或卤代烷基、或可选被卤素取代的芳基，并且R₃选自：其中，X各自独立地选自氢、卤素、任意经取代的支链或直链C₁‑C₆烷基、卤代烷基或可选被卤素取代的芳基；且n₁为1至27的整数；并且交联剂包含借助于一个或多个连接部分连接的两个或多个不饱和键，并且在标准压力下具有小于500℃的沸点。

技术领域

本发明涉及保护涂层，更具体地说，本发明涉及用于电子或电气装置及其元件的保护涂层，以及形成此类涂层的方法。涂层可以通过具有疏水性和阻挡水基液体进入电子装置来进行保护，或可以通过形成屏障涂层，因此在电话的电子元件和水基液体之间提供电阻来进行保护。

背景技术

单不饱和单体用于使用等离子体聚合过程来制造屏障涂层(参见共同待决的申请)。

也使用全氟烷基链单体，由脉冲等离子体沉积过程产生疏水性的表面(参见WO9858117A1)。

等离子体引发聚合反应的功率影响所产生的聚合物的性质。连续波等离子体的较高的平均能量输入引起单体的更多片段化，因此聚合物失去单体的结构特性。在1H,1H,2H,2H-全氟癸基丙烯酸酯(PFAC8)的情况下，全氟烷基链得到较少保留并且损害表面涂层的接触角。较高的等离子能量也引起较多的交联。对于较低平均能量输入的脉冲等离子体，存在较好的单体结构保留和较少的交联。全氟链在低能量下的较高保留，脉冲等离子体条件对表面涂层引起最佳的接触角水平。

当全氟烷基链具有八个或更多个氟化碳(长链)时，由该单体制成的聚合物具有晶体结构。当全氟烷基链具有少于八个氟化碳时，所得聚合物是无定形的，因此在水存在下可能是不稳定的(参见聚(氟烷基丙烯酸酯)薄膜的分子聚集结构和表面性质，大分子(Molecular Aggregation Structure and Surface Properties of Poly(fluoroalkylacrylate)Thin Films，Marcomolecules)，2005年，第38卷，第5699-5705页)。

当通过高平均功率(连续波或CW)或低平均功率(脉冲波或PW)等离子体制备长链全氟烷基聚合物时，则由于长链的晶体结构，聚合物触摸时没有粘性且在水的存在下稳定。然而，链较短的聚合物涂层的感觉和水稳定性受到所使用的等离子体功率水平的影响。例如，当PFAC6(1H,1H,2H,2H-全氟辛基丙烯酸酯)在低功率等离子体条件下聚合时，得到的聚合物涂层可能具有若干缺点。例如，涂层可使水滴极少扩散(滑落)，由表面上水滴的存在进行标记，具有粘性感，或容易涂污(例如在硅晶圆片和ABS塑料的基板上)。

通过增加用于聚合的等离子体的功率，聚合物的交联度变高并变得更耐涂污。然而，增加功率具有通过更多的单体片段化(如上文所描述)降低水接触角的伴随作用。图1显示了在125公升腔室中增加CW等离子体的功率与单体流量的作用：在4W/μl/min的比率下，水接触角为约85至95度，且涂层无粘性。然而，随着比率的下降，接触角增加，并且粘性/脏污涂层的发生也随之增加。图2显示了脉冲等离子体条件下的相同作用。这些结果表明，用于产生无粘性和无污染的涂层的过程窗口具有有限的等离子体处理范围，并且最终的涂层具有受损的水接触角。

因此，本申请的目的在于解决现有技术涂层中的一种或多种上述提及的问题。

发明内容

本发明的一个方面提供了一种电子或电气装置或其元件，其包括在电子或电气装置或其元件表面上的保护性交联聚合物涂层；