[发明专利]用于极紫外和软X射线光学器件的涂层

权利要求书

1.一种具有工作波长λ的光学元件，所述光学元件包括：

衬底；和

所述衬底上方的第一层；

其中所述第一层的厚度小于所述波长λ；其中第一层实质上由碱金属、惰性气体、卤素、非铍碱土金属或它们的组合组成；

其中所述第一层在λ处具有比相同厚度的无孔化学计量硅层更低的吸收率；和

其中0.1nm≤λ≤250nm。

2.根据权利要求1所述的光学元件，还包括在所述第一层上方或下方的氧气阻挡层。

3.如权利要求1所述的光学元件，还包括在所述第一层上方的疏水层。

4.根据权利要求3所述的光学元件，其中所述疏水层包括纳米结构。

5.根据权利要求1所述的光学元件，还包括：

在所述第一层上方或下方的第二层；

其中所述第二层的厚度的小于所述波长λ；

其中所述第二层实质上由过渡金属、镧系元素、锕系元素或它们的组合之一组成；和

其中0.1nm≤λ≤250nm。

6.根据权利要求5所述的光学元件，还包括41至400个具有所述第一层的光学特性的附加层与具有所述第二层的光学特性的附加层交替形成的叠层。

7.根据权利要求5所述的光学元件，其中，所述第一层或所述第二层中的至少一个包括纳米结构，所述纳米结构减小缺陷的可见性。

8.一种产品，包括：

衬底；

第一层光学材料，所述第一层光学材料在所述衬底的上方形成，并与在0.1nm和250nm之间的波长相匹配；和

覆盖层，所述覆盖层在所述第一层上方形成；

其中所述覆盖层实质上由碱金属、惰性气体、卤素、非铍碱土金属或它们的组合组成。

9.根据权利要求8所述的产品，其中所述覆盖层具有比钌的原子序数大的原子序数。

10.根据权利要求8所述的产品，其中所述覆盖层以与在操作环境中存在的粒子相同的极性被充电。

11.根据权利要求10所述的产品，其中所述覆盖层包括离子。

12.根据权利要求10所述的产品，其中所述覆盖层被电耦合到未接地的电压源。

13.如权利要求8所述的产品，还包括在所述覆盖层上方的疏水层。

14.一种光学反射器，包括：

衬底；

所述衬底上方的第一层；和

在所述衬底上方并且在所述第一层上方或下方的第二层；

其中所述第一层是多孔的；

其中所述第一层在工作波长λ处具有比所述第二层低的吸收系数；

其中所述第二层是无孔的；

其中所述第一层的厚度小于λ；和

其中第二层的厚度小于λ。

15.根据权利要求14所述的光学反射器，其中所述第一层包括2维或3维

纳米结构，所述纳米结构包括使所述层多孔的空间。

16.一种方法，包括：

准备衬底：和

在所述衬底上方形成第一层；

其中所述第一层实质上由碱金属、惰性气体、卤素、除铍以外的碱土金属或它们的组合之一组成；

其中所述第一层的厚度小于工作波长λ；并且其中0.1nm≤λ≤250nm。