[发明专利]用于调理牙本质和牙釉质的药剂有效
申请号: | 201680047409.6 | 申请日: | 2016-08-12 |
公开(公告)号: | CN107920960B | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | D·卡特尔;T·伯克 | 申请(专利权)人: | 义获嘉伟瓦登特公司 |
主分类号: | A61K6/70 | 分类号: | A61K6/70;A61K6/40;A61K6/20 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅;李渤 |
地址: | 列支敦*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 调理 牙本质 釉质 药剂 | ||
本发明涉及用作牙科修复治疗中的调理剂的过渡金属盐和主族金属盐的水溶液。
本发明涉及用于调理牙齿结构(牙本质和牙釉质)以实现与牙科修复材料耐久的强结合的制剂。该制剂的特征在于处理简单,容错度高,并且改善了结合的长期耐久性。
在牙齿的机械加工(“钻孔”)的情况下,在牙齿表面上形成所谓的主要由微小钻孔碎屑组成的玷污层(smear layer)。玷污层妨碍用于随后的牙齿修复的材料的粘合。用于去除玷污层的标准方法是用35-37%的磷酸处理牙齿表面。所述方法也被称为“全蚀刻”(TE)或“蚀刻和冲洗”法。去除玷污层实现了随后施加的牙科粘合剂与完整的且可机械负载的牙齿表面之间的接触。磷酸在牙釉质上产生独特的微固位(microretentive)蚀刻图案,并因此使得粘合剂系统可微机械粘合。在牙本质上,调理剂使牙本质小管避免玷污层并暴露胶原纤维。通过粘合剂对小管和胶原纤维的渗透导致微机械结合(Pashley,D.H.,Theevolution of dentin bonding from no-etch to total-etch to self-etch,Adhes.Tech.Sol.2002,1,1-5)。
采用TE粘合剂的直接修复治疗的常规处理程序提供以下工作步骤:(1)机械去除龋坏组织;(2)用磷酸蚀刻牙齿表面;(3)用水冲洗掉磷酸;(4)用牙科吹风机从腔体表面去除多余的水(“干燥”);(5)施加粘合剂;(6)吹掉溶剂;(7)光固化粘合剂;(8)施加填充复合材料;以及可选的用于完成修复的另外的步骤。
所述方法的关键步骤是在磷酸已经被冲洗掉之后干燥牙齿表面。已经表明,修复体的耐久性在很大程度上取决于牙本质表面的湿度,而不论使用的粘合剂如何。为了获得高水平的粘合,在施加粘合剂之前必须设定一定的剩余湿度(“湿结合技术”)。然而,由于其强脱矿质作用,磷酸暴露牙本质中存在的胶原原纤维。在以该方式准备的牙本质上,用吹风机干燥略长的时间已经导致暴露的胶原原纤维的塌陷,从而与完整的牙齿结构直接接触,以及胶原纤维和通过蚀刻扩大的小管的粘合剂渗透受到阻碍。这样的结果是初始粘合大量减少,缺乏牙本质结合的长期耐久性(特别是在高机械负载的位置,例如牙尖上的结构)以及牙本质流体在外部刺激下流动性升高,并因此增加术后敏感性的发生率(Pashley,D.H.,The evolution of dentin bonding from no-etch to total-etch to self-etch,Adhes.Tech.Sol.2002,1,1-5)。这些问题对于患者来说是非常不愉快的,而且对于牙科医生来说是费力的,因为患者不得不重新治疗。
然而,和过度干燥一样,牙本质干燥不充分也有消极后果。如果将粘合剂施加到太湿的牙本质,则在水相容性更好或更差的粘合剂组分之间存在相分离。由于通常的光引发剂系统仅具有较差的水相容性,因此粘合剂在富水相中的可聚合性受到限制。所得的粘合剂层在组成和聚合度方面是不均匀的,这导致粘合减少和对小管密封不充分。
问题进一步复杂化,因为用于实现理想的牙本质粘合的最佳湿度强烈依赖于使用的粘合剂。因此,尽管用于修复性牙科的总蚀刻方案非常重要,但还是深入寻求了供选择的方案。
总蚀刻方案的另一个问题是磷酸在牙本质(15s)和牙釉质(30s)上的停留时间,其必须被确切地遵守,但是不同。由于更耐酸的牙釉质需要与磷酸更长的接触时间用来调理,因此牙釉质通常首先用磷酸处理15秒,然后将该酸也施用于牙本质,并且再继续处理15秒(Brady,L.A.,Total-etch or self-etch:the debate continues,DentistryIQ,2011)。
然而,在将蚀刻剂施加到牙釉质的情况下,尤其是在较小的腔体的情况下,不能完全排除与牙本质的接触,这导致牙本质上的酸的作用时间过长。蚀刻牙本质太长时间引起牙本质小管的过度扩张和牙本质表面的强脱矿质(“过度蚀刻”)。然而,由过度蚀刻后术后敏感性发生率显著增加可知,使用粘合剂完全密封严重扩张的牙本质小管是最困难的(Brady,L.A.,Total-etch or self-etch:the debate continues,DentistryIQ,2011)。
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