[发明专利]使用图像的以模型为基础的计量

权利要求书

1.一种计量系统，其包括：

至少一个照明源，其经配置以照明位于一或多个实验设计DOE晶片的多个场处的多个DOE测量位点，其中每一DOE测量位点包含由至少一个所关注参数表征的至少一个结构的例子；

至少一个成像检测器，其经配置以检测从所述多个DOE测量位点中的每一者成像的光且产生所述多个DOE测量位点中的每一者的一或多个图像；

参考测量系统，其经配置以估计所述多个DOE测量位点中的每一者处的所述至少一个所关注参数的参考值；及

计算系统，其经配置以：

接收所述多个DOE测量位点中的每一者的所述一或多个图像及所述多个DOE测量位点中的每一者处的所述至少一个所关注参数的所述参考值；

选择与所述一或多个图像中的每一者相关联的像素的子集；且

基于所选择的与所述多个DOE测量位点中的每一者的所述一或多个图像中的每一者相关联的像素的子集及所述多个DOE测量位点中的每一者处的所述至少一个所关注参数的对应参考值来训练以图像为基础的信号响应计量SRM模型，所述以图像为基础的SRM模型使包含所述至少一个结构的例子的测量位点的图像与所述至少一个结构的所述至少一个所关注参数的值相关，所述测量位点的所述一或多个图像中的每一者包括多个像素和与每个像素相关联的单个测量信号值，且每个像素与所述一或多个DOE晶片上的不同位置相关联。

2.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述照明源经进一步配置以照明不同于所述DOE测量位点中的任一者的测量位点，其中所述测量位点包含由所述至少一个所关注参数表征的所述至少一个结构的例子；

其中所述成像检测器经进一步配置以检测从所述测量位点成像的光且产生所述测量位点的指示所检测的所述光的一或多个图像，

其中所述计算系统经进一步配置以：

接收所述测量位点的所述一或多个图像；

基于所述经训练的以图像为基础的SRM模型及所述测量位点的所述一或多个图像来确定表征所述测量位点处的所述至少一个结构的所述例子的所述至少一个所关注参数的值；且

将所述至少一个所关注参数的所述值存储在存储器中。

3.根据权利要求2所述的计量系统，其中测量信号值与所述多个DOE测量位点及所述测量位点中的每一者的每一图像的每一像素相关联，且其中所述测量位点的所述一或多个图像是从在所述多个DOE测量位点中的每一者的每一图像处由相同测量技术或测量技术的组合执行的测量导出。

4.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述计算系统经进一步配置以：

使用减小所述图像中的每一者的尺寸的特征提取模型，从所述多个DOE测量位点中的每一者的每一图像提取特征，其中所述以图像为基础的SRM模型的所述训练是基于从所述多个DOE测量位点中的每一者的每一图像提取的所述特征及所述多个DOE测量位点中的每一者处的所述至少一个所关注参数的所述对应参考值；且

使用所述特征提取模型，从所述测量位点的所述一或多个图像提取特征，其中所述至少一个所关注参数的所述值的所述确定是基于所述经训练的以图像为基础的SRM模型及从所述测量位点的所述一或多个图像提取的所述特征。

5.根据权利要求4所述的计量系统，其中所述特征提取模型是主成分分析PCA模型、独立成分分析ICA模型、核心PCA模型、非线性PCA模型、快速傅里叶变换FFT模型、离散余弦变换DCT模型及小波模型中的任一者。

6.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述多个实验设计DOE测量位点包含所述至少一个所关注参数的值的变动。

7.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述至少一个所关注参数是临界尺寸CD参数、覆盖参数、焦点参数、剂量参数、结构非对称性参数、结构粗糙度参数、定向自组装DSA图案均匀性参数及节距计步参数中的任一者。

8.根据权利要求1所述的计量系统，其中每一DOE测量位点包含计量目标、周期性光栅结构及装置结构中的任一者。