[发明专利]自相关测量装置

权利要求书

1.一种自相关测量装置，其特征在于，包括：

第一反射部件，其具有使入射脉冲光的一部分反射的第一反射面和使该入射脉冲光中透过该第一反射面的光反射的第二反射面；

第二反射部件，其具有使在所述第一反射部件的所述第一反射面或所述第二反射面反射的光的一部分反射的第一反射面和使该光中透过该第一反射面的光反射的第二反射面；

聚光部，其对在所述第一反射部件的所述第一反射面和所述第二反射部件的所述第二反射面反射的第一脉冲光以及在所述第一反射部件的所述第二反射面和所述第二反射部件的所述第一反射面反射的第二脉冲光进行聚光；

非线性光学结晶，其配置于由所述聚光部产生的聚光位置，通过所述第一脉冲光和所述第二脉冲光的入射而产生二次谐波光；

检测部，其对所述二次谐波光进行检测；

延迟调整部，其使入射至所述非线性光学结晶的所述第一脉冲光与所述第二脉冲光之间的延迟时间变化；和

分析部，其基于由所述延迟调整部设定的所述延迟时间与所述检测部的检测结果的关系，求取所述入射脉冲光的脉冲宽度。

2.如权利要求1所述的自相关测量装置，其特征在于：

对在所述第一反射部件和所述第二反射部件的各自中使光透过或反射的任意面，施以用于调整所述第一脉冲光与所述第二脉冲光之间的强度比的电介质多层膜。

3.如权利要求1或2所述的自相关测量装置，其特征在于：

所述第一反射部件包括：具有所述第一反射面的第一平板；和与该第一平板平行地配置且具有所述第二反射面的第二平板，

所述延迟调整部使所述第一平板与所述第二平板之间的间隔变化而使所述延迟时间变化。

4.如权利要求1或2所述的自相关测量装置，其特征在于：

所述第一反射部件包括折射率可变部件，该折射率可变部件设置于所述第一反射面与所述第二反射面之间且折射率根据施加电压值而变化，

所述延迟调整部使施加于所述折射率可变部件的电压值变化而使所述延迟时间变化。

5.如权利要求1或2所述的自相关测量装置，其特征在于：

入射至所述非线性光学结晶的所述第一脉冲光和所述第二脉冲光彼此是非同轴的，

在所述非线性光学结晶与所述检测部之间设置有孔隙部，该孔隙部选择性地使从所述非线性光学结晶出射的光中基于所述第一脉冲光和所述第二脉冲光的相关的所述二次谐波光向所述检测部通过，

所述检测部检测所述二次谐波光的强度。

6.如权利要求3所述的自相关测量装置，其特征在于：

入射至所述非线性光学结晶的所述第一脉冲光和所述第二脉冲光彼此是非同轴的，

在所述非线性光学结晶与所述检测部之间设置有孔隙部，该孔隙部选择性地使从所述非线性光学结晶出射的光中基于所述第一脉冲光和所述第二脉冲光的相关的所述二次谐波光向所述检测部通过，

所述检测部检测所述二次谐波光的强度。

7.如权利要求4所述的自相关测量装置，其特征在于：

入射至所述非线性光学结晶的所述第一脉冲光和所述第二脉冲光彼此是非同轴的，

在所述非线性光学结晶与所述检测部之间设置有孔隙部，该孔隙部选择性地使从所述非线性光学结晶出射的光中基于所述第一脉冲光和所述第二脉冲光的相关的所述二次谐波光向所述检测部通过，

所述检测部检测所述二次谐波光的强度。

8.如权利要求1或2所述的自相关测量装置，其特征在于：

在所述第二反射部件与所述非线性光学结晶之间设置有孔隙部，该孔隙部选择性地使所述第一脉冲光和所述第二脉冲光各自的光束在空间上彼此重叠的部分通过，

所述检测部检测所述二次谐波光的强度。

9.如权利要求3所述的自相关测量装置，其特征在于：

在所述第二反射部件与所述非线性光学结晶之间设置有孔隙部，该孔隙部选择性地使所述第一脉冲光和所述第二脉冲光各自的光束在空间上彼此重叠的部分通过，

所述检测部检测所述二次谐波光的强度。