[发明专利]用于污渍处理的方法和装置

权利要求书

1.一种用于识别织物上的污渍的方法，所述方法包括以下步骤：

进行近红外反射光谱法以在从最短波长至最长波长的波长范围内从所述污渍获得光谱数据，所述最短波长具有1595nm或更长的值；

访问已知污渍的参考光谱数据；和

将所述污渍的所述光谱数据与所述已知污渍的参考光谱数据进行比较以识别所述污渍。

2.权利要求1所述的方法，其中在其内获得数据的所述波长范围由以下定义：

对应于不短于1600nm的最短波长的下界；和

对应于不长于2000nm的最长波长的上界；

其中所述污渍的所述光谱数据与所述参考光谱数据的比较是在从1600nm至2000nm的整个范围内进行。

3.权利要求1所述的方法，其中所述最长波长不长于2397nm。

4.前述权利要求中任一项所述的方法，其中将所述污渍的所述光谱数据与已知污渍的参考光谱数据进行比较的步骤包括：

对待处理的所述污渍的所述光谱数据进行多元数据分析技术。

5.前述权利要求中任一项所述的方法，其还包括：

为处理所述污渍的用户提供用户界面以提供关于所述污渍的信息；和

将在所述用户界面处提供的所述信息与关于所述已知污渍的信息进行比较。

6.权利要求5所述的方法，其中所述用户界面在包括相机的移动设备上提供。

7.权利要求5或权利要求6所述的污渍检测系统，其中所述用户界面包括印刷界面和/或供用户输入关于所述污渍和/或所述织物的信息的下拉菜单。

8.一种处理包含污渍的织物的方法，所述方法包括以下步骤：

使用前述权利要求中任一项所述的方法识别所述织物上的污渍；

基于所识别的污渍选择用于处理所述织物的处理方案。

9.一种用于识别织物上的污渍的污渍确定系统，其包括：

近红外反射(NIR)光谱仪，其在波长范围内操作，所述范围由对应于最短波长的下界；和对应于最长波长的上界定义，所述最短波长为1595nm或更长；和

分析模块，其包含存储装置，

所述分析模块被配置为从所述NIR光谱仪接收所述光谱数据；从所述存储装置检索已知污渍的参考光谱数据；并在整个波长范围内将来自所述NIR光谱仪的所述光谱数据与已知污渍的所述光谱数据进行比较，由此针对特定污渍的所述NIR光谱数据和所述参考光谱数据之间的匹配识别所述织物上的所述污渍。

10.权利要求9所述的污渍确定系统，其中在其内获得数据的所述波长范围由以下定义：

对应于不短于1600nm的最短波长的下界；和

对应于不长于2000nm的最长波长的上界；和

其中所述污渍的所述光谱数据与所述参考光谱数据的比较是在从1600nm至2000nm的整个范围内进行。

11.权利要求9或权利要求10所述的污渍确定系统，其还包括处理模块，所述处理模块被配置为基于所识别的污渍选择处理参数。

12.权利要求9至11中任一项所述的污渍确定系统，其中所述分析模块包括用户界面，所述用户界面被配置为从用户接收关于所述污渍的信息。