[发明专利]光刻用材料以及其的制造方法、光刻用组合物、图案形成方法、以及、化合物、树脂、以及它们的纯化方法

权利要求书

1.一种光刻用材料，其中，包含：含有碲的化合物或含有碲的树脂，

所述含有碲的化合物为由下式(A－2)或式(1A)表示的化合物，

所述含有碲的树脂为包含源自由下式(A－1)表示的化合物的结构单元的树脂、包含源自由下式(A－2)表示的化合物的结构单元的树脂、包含由下式(C1)表示的结构单元的树脂或包含由下式(C2)表示的结构单元的树脂，

式(A－1)中，X为包含碲的碳数0～60的2m价基团，Z为氧原子、硫原子或未桥接，R⁰分别独立地选自由包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基、卤原子、以及它们的组合组成的组，m为1～4的整数，p分别独立地为0～2的整数，n分别独立地为0～(5+2×p)的整数；

式(A－2)中，X为包含碲的碳数0～60的2m价基团，Z为氧原子、硫原子、单键或未桥接，R^0A分别独立地选自由烃基、卤原子、氰基、硝基、氨基、碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基、碳原子数6～40的芳基、羟基或羟基的氢原子被酸交联性反应基团或酸离解性反应基团取代而成的基团、以及它们的组合组成的组，其中，所述烷基、该烯基以及该芳基任选包含醚键、酮键或酯键，m为1～4的整数，p分别独立地为0～2的整数，n分别独立地为0～(5+2×p)的整数；

式(1A)中，X、Z、m、p与所述式(A－1)含义相同，R¹分别独立地选自由烃基、卤原子、氰基、硝基、氨基、碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基、碳原子数6～40的芳基、以及它们的组合组成的组，其中，该烷基、该烯基以及该芳基任选包含醚键、酮键或酯键，R²分别独立地为氢原子、酸交联性反应基团或酸离解性反应基团，n¹分别独立地为0～(5+2×p)的整数，n²分别独立地为0～(5+2×p)的整数，其中，至少一个n²为1～(5+2×p)的整数；

式(C1)中，X⁴分别独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基、氢原子、或卤原子，R⁶分别独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基、或卤原子，r为0～2的整数，n⁶为2～(4+2×r)；

式(C2)中，R⁶分别独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基、或卤原子，r为0～2的整数，n⁶为2～(4+2×r)。

2.根据权利要求1所述的光刻用材料，其中，所述含有碲的化合物由下式(1B)表示，

式(1B)中，X⁰、Z、m、p与所述式(A－3)含义相同，R^1A分别独立地为烷基、芳基、烯基或卤原子，R²分别独立地为氢原子、酸交联性反应基团或酸离解性反应基团，n¹分别独立地为0～(5+2×p)的整数，n²分别独立地为0～(5+2×p)的整数，其中，至少一个n²为1～(5+2×p)的整数。

3.根据权利要求2所述的光刻用材料，其中，所述含有碲的化合物由下式(2A)表示，

式(2A)中，Z、R^1A、R²、p、n¹、n²与所述式(1B)含义相同，X¹分别独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基、氢原子、或卤原子。

4.根据权利要求2所述的光刻用材料，其中，所述含有碲的化合物由下式(2B)表示，

式(2B)中，Z、R^1A、R²、p、n¹、n²与所述式(1B)含义相同。