[发明专利]蚀刻液组合物以及蚀刻方法

权利要求书

1.一种蚀刻液组合物，其用于对位于基体上并包含至少一种钛系层以及至少一种铜系层的层叠体的钛系层和铜系层一并进行蚀刻，所述蚀刻液组合物包含：

(A)过氧化氢0.1～15质量％；

(B)由氢氟酸、氟化铵或氟化氢铵中选择的氟化物离子供给源0.01～1质量％；

(C)以有机磺酸换算计，作为2-羟基乙烷磺酸的有机磺酸或其盐1～10质量％；

(D)5-氨基四唑0.01～5质量％；以及

(E)水。

2.一种蚀刻方法，其用于对位于基体上并包含至少一种钛系层以及至少一种铜系层的层叠体的钛系层和铜系层一并进行蚀刻，所述蚀刻方法包括如下步骤：

使用权利要求1所述的蚀刻液组合物。

3.一种蚀刻方法，其包括如下步骤：

使用权利要求1所述的蚀刻液组合物，对位于基体上并包含至少一种钛系层以及至少一种铜系层的层叠体、即被蚀刻材料的钛系层和铜系层一并进行蚀刻，之后，再次使用该蚀刻液组合物，对其他的被蚀刻材料一并进行蚀刻。