[发明专利]经由纳米压印的选择性表面图案化

权利要求书

1.制备衬底的方法，其包括：

提供衬底，所述衬底在该衬底的表面上包括第一图案化的聚合物层；

在整个第一图案化的聚合物层之上且与其直接接触地沉积第一光子晶体材料使得所述第一光子晶体材料采取第一图案化的聚合物层中的图案；和

在整个第一光子晶体材料之上且与其直接接触地形成第二图案化的聚合物层，其中形成第二图案化的聚合物层涉及：

在第一光子晶体材料上沉积光致固化聚合物组合物；

将印模压印在所述光致固化聚合物组合物上；

对所述光致固化聚合物组合物进行紫外固化；

将引物接枝到所述第二图案化的聚合物层；

其中所述第一图案化的聚合物层和所述第二图案化的聚合物层包括聚(N-(5-叠氮基乙酰氨基戊基)丙烯酰胺-共-丙烯酰胺)。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一图案化的聚合物层是通过机械压凸、纳米压印光刻法、或无抗蚀剂的纳米压印光刻法制备的。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述第一图案化的聚合物层是通过无抗蚀剂的纳米压印光刻法制备的。

4.如权利要求1-3的任一项所述的方法，其中所述第一聚合物层中的图案与所述第二聚合物层中的图案基本相同。

5.如权利要求1-3的任一项所述的方法，其中所述第一聚合物层中的图案与所述第二聚合物层中的图案是互补的。

6.如权利要求1-3的任一项所述的方法，其中所述第一光子晶体材料具有高的折射率和低的吸附。

7.如权利要求6所述的方法，其中第一和第二光子晶体材料包括Ta₂O₅。

8.如权利要求1-3的任一项所述的方法，其中所述第一图案化的聚合物层和第二图案化的聚合物层中的图案包括微米级或纳米级的通道、沟槽、柱、孔、或其组合。

9.通过权利要求1-8的方法制备的衬底。

10.使用如权利要求9的衬底检测分析物的方法。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述分析物选自多核苷酸、蛋白质、抗体、针对抗体的表位、酶、或小分子药物。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述分析物为多核苷酸。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述检测包括测定所述多核苷酸的核苷酸序列。

14.如权利要求13所述的方法，其还包括如下步骤：

(a)使多核苷酸聚合酶与附着到所述衬底的表面的多核苷酸簇接触；

(b)向所述衬底的表面提供核苷酸使得当一个或多个核苷酸被所述多核苷酸聚合酶利用时产生能检测的信号；

(c)检测在一个或多个附着的多核苷酸簇处的信号；和

(d)重复步骤(b)和(c)，从而测定衬底-附着的多核苷酸的核苷酸序列。

15.如权利要求14所述的方法，其中所述衬底的表面存在于流动室内。