[发明专利]基板分析用的喷嘴

说明书

本发明提供一种基板分析用的喷嘴，是针对具有亲水性较大的特性的基板，即使利用分析液来扫描，分析液也不会漏出，而可确实地进行分析的基板分析用的喷嘴。本发明的基板分析用的喷嘴由双层管所构成，且具备将喷嘴主体与外管之间作为排气路径的排气装置，该双层管由吐出及抽吸分析液的喷嘴主体、及以包围要扫描的分析液的方式配设在喷嘴主体的外围的外管所构成，该基板分析用的喷嘴在外管前端的外周侧且为喷嘴的扫描方向的相反侧，配置朝喷嘴主体的前端将惰性气体喷附至与基板表面大致平行的方向的气体喷附管。

技术领域

本发明是涉及用来分析基板所含的微量金属等分析对象物的喷嘴。

背景技术

利用在半导体晶圆等基板分析的喷嘴是在利用微量的分析液检测出于制程等中混入基板的金属、有机物质等时所使用。具体而言是使用在下述时机：在分析于硅晶圆等的基材上形成有二氧化硅膜或氮化硅膜等的基板的情况下，利用气相分解法等进行将形成膜蚀刻的前处理，借此以残渣的形式将形成膜中的杂质残留在基板表面，接下来吐出微量的分析液，利用吐出的分析液扫描基板表面并回收杂质时。在疏水性的基板上，由于分析液借由表面张力而容易维持液滴的状态，因此可实现这种基板表面的扫描。而且，可通过这种利用喷嘴的扫描，使基板上的金属等移动至分析液中，并且对分析液进行分析。

就该基板分析用的喷嘴而言，已知有一种由双层管所构成的喷嘴，该双层管包含：从前端将分析液吐出在基板上，且利用吐出的分析液扫描基板表面之后再抽吸分析液，吐出及抽吸分析液的喷嘴主体；以及以包围要进行扫描的分析液的方式配设在喷嘴主体的外围的外管(例如专利文献1)。该专利文献1所揭示的双层管构造的基板分析用的喷嘴可在短时间扫描基板表面，并且具有分析液不容易在扫描中脱落的特性。

具体而言，该双层管构造的基板分析用的喷嘴是如图1所示。图1的喷嘴1由包括喷嘴主体10及外管20的双层管所构成，喷嘴主体10通过管体而与注射泵30连接，而可吐出分析液D。另外，在外管20设有与泵(未图示)连接的抽吸装置21，俾使喷嘴主体10与外管20之间的空间形成减压环境。该图1所示的基板分析用的喷嘴是以利用保持在喷嘴主体10的前端部分的分析液D扫描作为分析对象的基板表面的方式使其移动。在扫描中，通过使喷嘴主体10与外管20之间形成减压环境，防止保持在喷嘴主体10的前端部分的分析液脱落。因此，即使为了使基板分析更有效率而加大喷嘴口径，分析液也不会脱落。

此外，就其他的现有技术而言，提案有一种以液滴处理基板的表面的基板处理装置，该基板处理装置具备：夹具(jig)，其可从沿着圆形的虚线设置的开口喷出气体；压力传感器，用于检测出从所述开口喷出的气体在所述夹具的内部的内部压力；以及扫描机器，其以从基板的表面的直行方向观看基板且以所述开口围绕附着在基板表面的液滴的方式保持所述夹具，且将从所述开口喷出的气体喷附在基板的表面，同时以使所述内部压力与属于特定的压力值的特定压力值的差减小的方式，可调整沿着所述夹具的基板表面的直行方向的位置，并且从基板表面的直行方向观看基板且以所述开口围绕附着在基板表面的液滴的方式保持所述夹具，且将从所述开口喷出的气体喷附在基板的表面，同时使所述夹具沿着基板的表面相对地移动(例如专利文献2)。

在该专利文献2的基板处理装置中，借由从附着在基板表面的液滴(例如分析液等)的周围喷附气体，而可防止液滴从夹具脱落。并且，若为该基板处理装置，则即使基板的表面相对于液滴具亲水性的情形时，也可保持液滴。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本特开2011-128033号公报

[专利文献2]日本特开2012-009475号公报。