[发明专利]耐蚀刻性优秀的I线用负性光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种I线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

对于组合物总量，包含：5至50重量％的聚合物树脂、0.1至10重量％的选自由以下化学式1、化学式3至化学式5所示的化合物组成的组中的至少一种化合物、1至10重量％的交联剂、0.1至10重量％的光酸产生剂、0.01至5重量％的酸扩散抑制剂和余量的溶剂，

(化学式1)

(化学式3)

(化学式4)

(化学式5)

在所述化学式中，R相同或不同，各自独立地选自以下群组中的一种：丙烯酰基(Acryloyl)、芳基(Allyl)、3-乙氧基丙烯酰(3-Etoxyacryloyl)、二甲基硅烷烯丙基(Dimethylsilaneallyl)、甲基丙烯酸(Methylacryl)、反式-3-(苯甲酰基)丙烯酸(trans-3-(Benzoyl)acryl)、3-(2-呋喃基)丙烯酸(3-(2furyl)acryl)、4-(苄氧基)苯甲基(4-(benzyloxy)benzyl)。

2.根据权利要求1所述的I线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

由所述化学式1、化学式3至化学式5表示化合物是对1,4-苯二酚(1,4-Hydroquinone)、萘-1,5-二醇(Naphthalene-1,5-diol)、双酚A(BisphenolA)、蒽-9,10-二醇(Anthracene-9,10-diol)、1,1,1-三(4-羟苯基)乙烷(1,1,1-tris(4-hydroxyphenyl)ethane)取代反应丙烯酰氯得到的化合物。

3.根据权利要求1所述的I线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

由所述化学式1、化学式3至化学式5表示的化合物的重均分子量分别为163至500。

4.根据权利要求1所述的I线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

所述聚合物树脂是选自由含有羟基的苯酚聚合物树脂以及甲酚聚合物树脂组成的群组中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的I线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，

所述苯酚聚合物树脂是从选自以下群组中的至少一种单体获取的：4-羟基-3-甲基苯甲酸(4-Hydroxy-3-methyl benzoic acid)、4-羟基-2-甲基苯甲酸(4-Hydroxy-2-methylbenzoic acid)、5-羟基-2-甲基苯甲酸(5-Hydroxy-2-methyl benzoic acid)、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸(3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxy benzoic acid)、4-羟基-3,5-二甲基苯甲酸(4-Hydroxy-3,5-dimethyl benzoic acid)、4-羟基间苯二甲酸(4-Hydroxyisophthalic acid)、2,4,6-羟基甲苯(2,4,6-Hydroxy toluene)、2,4,6-三羟基苯甲酸一水合物(2,4,6-Trihydroxy benzoic acid monohydrate)、2,4,6-三羟基苯甲醛(2,4,6-Trihydroxy benzaldehyde)；甲酚聚合物树脂是从选自以下群组中的至少一种单体获取的：甲酚(o-cresol)、对甲酚(p-cresol)、间甲酚(m-cresol)、环氧邻甲酚(Epoxyo-cresol)、环氧对甲酚(Epoxy p-cresol)、环氧间甲酚(Epoxy m-cresol)。