[发明专利]抗微生物‑抗反射制品及其制造方法

权利要求书

1.一种抗微生物制品，其包含：

抗微生物元件；以及

抗反射元件，

其中，所述制品表现出在约425nm至约725nm范围内的反射率为约4％或更小，并且

进一步地，其中，所述制品在经过修改的EPA铜测试方案下，至少使金黄色葡萄球菌、产气肠杆菌和铜绿假单胞菌的浓度下降至少log 2。

2.如权利要求1所述的制品，其还包含：

基底基材，其中，抗反射元件被设置在基底基材上并且抗微生物元件被设置在抗反射元件上。

3.如权利要求2所述的制品，其中，基材包含玻璃、陶瓷或玻璃陶瓷组合物。

4.如权利要求1-3中任一项所述的制品，其中，所述制品在约425nm至约725nm范围内表现出反射率为约1％或更小。

5.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件包含含有有机侧链的至少部分固化的硅氧烷，其中至少一部分有机侧链包括质子化的胺取代基或者含有至少一个氢原子的胺取代基。

6.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件的厚度在约10nm至约500nm的范围内。

7.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件的厚度在约50nm至约250nm的范围内。

8.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件的厚度在约75nm至约150nm的范围内。

9.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗反射元件包含多层低折射率材料与高折射率材料的交替层。

10.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗反射元件包含设置在基材上的含有Nb₂O₅的第一层；设置在第二层上的含有SiO₂的第二层和设置在第二层上的含有Nb₂O₅的第三层。

11.如权利要求10所述的制品，其中，第一层的厚度在10至20nm的范围内，第二层的厚度在30至40nm的范围内，并且第三层的厚度在105nm至130nm的范围内，并且进一步地，其中，抗微生物元件的厚度在80nm至95nm的范围内。

12.如前述权利要求中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件包含进行了银、铜或锌离子交换的硅酸盐层、碱金属硅酸盐层或碱金属硼硅酸盐层。

13.一种抗微生物制品，其包含：

抗微生物元件，其具有在约50nm至约200nm范围内的抗微生物元件厚度、抗微生物元件光学厚度和抗微生物元件折射率；以及

抗反射元件，其具有抗反射元件厚度、抗反射元件光学厚度和抗反射元件折射率，

其中，所述制品表现出在约425nm至约725nm范围内的反射率为约4％或更小，并且

进一步地，其中，抗反射元件光学厚度与抗微生物元件光学厚度的总和是恒量，抗反射元件光学厚度通过抗反射元件厚度乘以抗反射元件折射率给出，并且抗微生物元件光学厚度通过抗微生物元件厚度乘以抗微生物元件折射率给出。

14.如权利要求13所述的制品，其还包含：

基底基材，其中，抗反射元件被设置在基底基材上并且抗微生物元件被设置在抗反射元件上。

15.如权利要求14所述的制品，其中，基材包含玻璃、陶瓷或玻璃陶瓷组合物。

16.如权利要求13-15中任一项所述的制品，其中，所述制品在约425nm至约725nm范围内表现出反射率为约1％或更小。

17.如权利要求13-16中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件包含含有有机侧链的至少部分固化的硅氧烷，其中至少一部分有机侧链包括质子化的胺取代基或者含有至少一个氢原子的胺取代基。

18.如权利要求13-17中任一项所述的制品，其中，抗微生物元件的厚度在约75nm至约150nm的范围内。

19.如权利要求13-18中任一项所述的制品，其中，抗反射元件包含多层低折射率材料与高折射率材料的交替层。