[发明专利]分束设备

说明书

一种分束设备(40)，其被布置成接收输入辐射束(B)且将所述输入辐射束(B)分离成多个输出辐射束(Ba‑Bj)。所述分束设备(40)包括多个反射式衍射光栅(41‑45)，所述多个反射式衍射光栅被布置成接收辐射束且被配置成形成包括多个衍射级的衍射图案，所述反射式衍射光栅(42‑45)中的至少一些被布置成接收形成于所述反射式衍射光栅(41‑44)中的另一个处的0衍射级。所述反射式衍射光栅被布置成使得每个输出辐射束(Ba‑Bj)的光学路径包括至多一个作为非0衍射级的衍射级的实例。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年9月3日递交的欧洲申请15183677.2的优先权，并且通过引用将其全文并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种分束设备。具体地，但非排他地，所述分束设备可形成包括至少一个光刻设备的光刻系统的部分。

背景技术

光刻设备是被构造成将所期望的图案施加至衬底上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可将图案从图案形成装置(例如，掩模)投影至设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

由光刻设备用以将图案投影至衬底上的辐射的波长决定了能够形成于所述衬底上的特征的最小尺寸。使用作为具有在4至20nm范围内的波长的电磁辐射的EUV辐射的光刻设备相比于常规光刻设备(其可例如使用具有193nm波长的电磁辐射)可用以在衬底上形成更小的特征。

光刻设备可具备来自具有分束设备的光束传递系统的EUV辐射。本发明的目的是消除或减轻现有技术的至少一个问题。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供一种分束设备，其被布置成接收输入辐射束且将所述输入辐射束分离成多个输出辐射束。所述分束设备包括多个反射式衍射光栅，所述多个反射式衍射光栅被布置成接收辐射束且被配置成形成包括多个衍射级的衍射图案，所述反射式衍射光栅中的至少一些反射式衍射光栅被布置成接收形成于所述反射式衍射光栅中的另一个反射式衍射光栅处的0衍射级。所述反射式衍射光栅被布置成使得每个输出辐射束的光学路径包括至多一个作为非0衍射级的衍射级的实例。

当与较高衍射级相比时，形成于衍射光栅处的0衍射级的功率和/或指向方向通常对于入射到衍射光栅上的辐射的波长和/或指向方向的变化更稳定。因此，提供每个输出辐射束的光学路径包括至多一个作为非0衍射级的衍射级(例如，+1或-1衍射级)的实例的分束设备有利地改善输出辐射束的功率和/或指向方向随着输入辐射束的波长和/或指向方向改变的稳定性。这种布置可在从包括自由电子激光器的辐射源提供输入辐射束的实施例中特别有利，这是因为自由电子激光器的输出可经历波长和/或指向方向随着时间推移的变化。

所述输出辐射束可用于供给至多个光刻设备。

所述衍射光栅可被配置成使得每个所述输出辐射束具有基本上相同的功率。

所述分束设备可包括：第一反射式衍射光栅，所述第一反射式衍射光栅被布置成接收所述输入辐射束且被配置成形成包括多个衍射级的衍射图案，每个衍射级形成子束，所述子束包括至少第一子束和第二子束，其中所述第二子束形成第一输出辐射束；和第二反射式衍射光栅，所述第二反射式衍射光栅被布置成接收形成于所述第一衍射光栅处的所述第一子束且被配置成形成包括多个衍射级的衍射图案，每个衍射级形成子束，所述子束包括至少第三子束和第四子束，其中所述第四子束形成第二输出辐射束。

所述第一衍射光栅和所述第二衍射光栅可被配置成使得所述第一输出辐射束和所述第二输出辐射束具有基本上相同的功率。

所述第一子束可以是零衍射级。

所述第三子束可以是零衍射级。

所述第一衍射光栅可被配置成使得所述第一子束的功率大于所述第二子束的功率。