[发明专利]基于辅助电磁场的引入的一阶散射测量叠对的新方法

权利要求书

1.一种计量测量方法，其包括：

由固定的照明源照明固定的衍射目标，

用检测器测量由零阶衍射信号及一阶衍射信号的总和组成的散射测量信号，

维持所述衍射目标及所述照明源固定的同时，针对所述零阶与所述一阶衍射信号之间的多个关系重复所述测量，及

使用处理器从所述测量总和导出所述一阶衍射信号。

2.根据权利要求1所述的计量测量方法，其中所述照明是相干的且在相对于所述目标的光瞳平面中进行所述测量。

3.根据权利要求2所述的计量测量方法，其中照明波长及所述目标的节距经选择以在所述光瞳平面中产生零衍射阶与一衍射阶的部分重叠。

4.根据权利要求1所述的计量测量方法，其中所述照明是不相干的且在相对于所述目标的场平面中进行所述测量。

5.根据权利要求4所述的计量测量方法，其中不测量的一阶衍射信号在所述目标的光瞳平面处经遮挡以产生所述测量总和。

6.根据权利要求5所述的计量测量方法，其中所述目标是包括至少两个周期性结构的成像目标，所述方法进一步包括对所述目标实施至少两次叠对测量，至少一者是针对遮挡的+1衍射阶且至少另一者是针对遮挡的-1衍射阶，且通过平均所述至少两次叠对测量而导出叠对。

7.根据权利要求4所述的计量测量方法，其进一步包括在训练阶段期间识别且移除引入不准确性的照明点。

8.根据权利要求2所述的计量测量方法，其进一步包括针对作为所述零阶与所述一阶衍射信号之间的所述关系的多个相位实施所述重复所述测量。

9.根据权利要求2所述的计量测量方法，其进一步包括针对所述照明的多个角度及/或相位及/或波长实施所述重复所述测量以修改所述零阶与所述一阶衍射信号之间的所述关系。

10.根据权利要求1所述的计量测量方法，其中所述照明是环形的且所述衍射目标包括具有至少两个对应的不同节距的至少两个周期性结构，且其中所述环形照明的宽度及所述节距经选择以将所述零阶衍射信号与来自相应周期性结构中的每一者的所述一阶衍射信号中的每一者之间的重叠区域分离。

11.根据权利要求1所述的计量测量方法，其中所述测量在所述光瞳平面的零衍射阶与一衍射阶的重叠处。

12.根据权利要求11所述的计量测量方法，其进一步包括从所述重叠导出光栅位置。

13.一种计量工具，其包括：

固定的照明源，其经配置以照明固定的衍射目标，

测量单元，其包括至少一个检测器，其中所述测量单元经配置以重复测量由零阶衍射信号及一阶衍射信号的总和组成的散射测量信号，其中维持所述衍射目标及所述照明源固定的同时，针对所述零阶与所述一阶衍射信号之间的多个关系实施所述重复测量，及

处理器，其经配置以从所述测量总和导出所述一阶衍射信号。

14.根据权利要求13所述的计量工具，其中所述照明是相干的且在相对于所述目标的光瞳平面中实施所述测量。

15.根据权利要求14所述的计量工具，其中照明波长及所述目标的节距经选择以在所述光瞳平面中产生零衍射阶与一衍射阶的部分重叠。

16.根据权利要求13所述的计量工具，其中所述照明是不相干的且在相对于所述目标的场平面中实施所述测量。

17.根据权利要求16所述的计量工具，其进一步包括在所述目标的光瞳平面处的掩模，所述掩模经配置以阻断不测量的一阶衍射信号以产生所述测量总和。